設計規則最佳化_中文百科全書

設計規則最佳化

隨著版圖的特徵尺寸不斷縮小，尤其是在20nm及以下節點，193nm浸沒式光刻機已經達到了解析度極限。儘管採用了先進的SMO和OPC，版圖上仍然有一些難以解決的壞點。為了解決這一問題，從改變設計尺寸的角度，開發出了一種新的光刻最佳化方法。該方法基於光刻最佳化仿真反饋的信息，重新定義相應的版圖設計規則。這種新型的智慧型化最佳化方法被稱為版圖設計規則的最佳化（design rule optimization, DRO）。

DRO同步進行目標圖形、光源、掩模圖形，以保證整體工藝視窗最大。DRO的最終最佳化結果包括版圖設計規則相關參數、目標圖形、更新後的測量參數、最佳化後的光源和掩模圖形組成。DRO還有另外一個獨特的優勢，就是設計最佳化的過程中不需要增加器件尺寸，保證了晶片的尺寸儘可能小的初衷。