基本介紹
- 中文名：蒸發合金工藝
- 外文名：evaporated alloying technology
- 特點：精確地控制合金深度
- 套用：鍺器件的生產
- 製作：高頻電晶體
- 學科：電子工程
掩蔽網膜的構造,工藝流程,
掩蔽網膜的構造
為了蒸發規定大小的電圖極，掩蔽網膜的縫隙必須和電極所要求的尺寸相同。常用的縫隙呈矩形，尺寸為25 X 50微米、25 X75微米和25 X 150微米。
實際套用的掩蔽網膜是由隔板、網膜和壓板三部分重迭起來組成的。掩蔽網膜的縫隙實際上並不是單由網膜構成的，而是由隔板和網膜相互重合配套構成的。隔板和網膜上均有矩形的穿孔，但它們的幾何尺寸並不相同，隔板上的矩形穿孔的寬度應等於掩蔽網膜上所要求的實際隙縫的長度，而網膜上矩形穿孔的寬度應等於掩蔽網膜上所要求的實際隙縫的寬度，當隔板和網膜重合起來（使兩者的矩形穿孔交叉垂直地迭合）時就形成了我們所需要的隙縫尺寸。
掩蔽網膜工藝流程
蒸發合金過程是在專用的高真空鍍膜設備(俗稱蒸發台)上進行的。
蒸發合金時，將鍺片和蒸發午金源放入蒸發台的訃罩內，鍺片上放有掩蔽網膜。當鐘罩內達到一定的真空度後，使鍺片預熱(通過鍺片下面的加熱器通電加熱)一段時間，然後進行蒸發。先蒸發發射極，由於鋁鍺合金的共熔點為424℃，因此蒸發寸的鍺片溫度應控制正比共熔點略高的溫度範圍，譬如430℃左右。在此溫度下形成p-n合金結(發襯結)。之後蒸發基極電極，並在360℃左右形成歐姆接觸電儀。
蒸發層(鋁層和金銻層)的厚度可通過蒸發寸間和蒸發金屬源的用量來調整，通常厚度為1500-3000埃。
由於鍺台面管的電極很窄，因此，熱壓用約會絲直徑也必須很小，金絲的直徑應該比電極寬度小一半以上。譬如寬度為25微米的電極，金絲的直徑最大只能選擇為10-12微米。
