《納米技術—原子力顯微術測定納米薄膜厚度的方法》是2018年12月28日實施的一項中國國家標準。
基本介紹
- 中文名:納米技術—原子力顯微術測定納米薄膜厚度的方法
- 外文名:Nanotechnology—Method for the measurement of the nanofilm-thickness by atomic force microscopy
- 標準號:GB/T 36969-2018
- 中國標準分類號:J04
《納米技術—原子力顯微術測定納米薄膜厚度的方法》是2018年12月28日實施的一項中國國家標準。
《納米技術—原子力顯微術測定納米薄膜厚度的方法》是2018年12月28日實施的一項中國國家標準。編制進程2018年12月28日,《納米技術—原子力顯微術測定納米薄膜厚度的方法》發布。2018年12月28日,《納米技術—原...
2017年5月12日,《納米技術納米顆粒尺寸測量原子力顯微術》標準發布。2017年12月1日,《納米技術納米顆粒尺寸測量原子力顯微術》標準開始實施。起草工作 主要起草單位:國家納米科學中心 、納米技術及套用國家工程研究中心 、北京粉體技術協會 。主要起草人:朱曉陽 、楊延蓮 、高潔 、何丹農 、朱君 、周素紅 、張迎 ...
利用X射線衍射測量薄膜中的殘餘應力分布、薄膜的彈性模量和泊松比。針對原子力顯微鏡AFM存在的像素點飄移、灰度波動、掃描時間長等缺陷,將機率最相似理論和小波分析引入到圖像處理中,避開灰度運算,直接分析隨機信息和頻率信息。開發適用於AFM圖像的應變分析技術。在外加應力和殘餘應力的作用下,在納米尺度上,研究薄膜的...
微納科技的發展對次表面結構納米成像提出了巨大挑戰,迫切要求開發具備柔性工作環境、超高分辨力及非侵入式的檢測新方法和新技術。超聲原子力顯微術可實現內部納米結構檢測,具有廣泛的套用前景。本項目針對目前基於超聲振動調製的原子力顯微術次表面納米成像機制尚未清楚、測試數據多為定性表征等問題,在國家自然科學基金...
1.2 納米材料的特性 1.3 納米測量/表征技術 第2章 納米尺度及薄膜厚度的測量方法 2.1 納米定位和測量技術簡介 2.2 台階儀 2.3 橢圓偏振儀 第3章 納米材料的形貌分析 3.1 基本理論與概念 3.2 掃描電子顯微鏡 3.3 透射電子顯微鏡 3.4 掃描隧道顯微鏡 3.5 原子力顯微鏡 3.6 雷射粒度儀 第4章 納米...
納米尺度上表面現象的原子力顯微術研究外文題名,Nanoscale surface phenomena investigated by atomic force microscopy-adhesion,論文作者,魏鐘晴著,導師白春禮院士,王琛研究員指導 副題名 粘附、成像和摩擦 學科專業 物理化學 學位級別 d 2001n 學位授予單位 中國科學院化學研究所 學位授予時間 2001 關鍵字 納米表面...
7.4.4 SEM用聚合物試樣的製備技術 7.4.5 光學顯微鏡、掃描電鏡和透射電鏡的性能比較 7.5 掃描電鏡在聚合物研究中的套用 7.5.1 纖維的結構及缺陷特徵 7.5.2 聚合物共混及多相複合體 7.5.3 有序膜及有序微孔材料 7.5.4 聚合物高壓下的結晶行為 7.6 原子力顯微鏡 7.6.1 原子力顯微鏡的結構與原...
GB/T 30447—2013 納米薄膜接觸角測量方法 GB/T 30452—2013光催化納米材料光解指數測試方法 GB/T 30543—2014納米技術 單壁碳納米管的透射電子顯微術表征方法 GB/T 31229~2014熱重法測定揮發速率的試驗方法 GB/T 32006—2015金納米棒光熱效應的評價方法 GB/Z 21738—2008一維納米材料的基本結構 高分辨透射電子...
橢偏技術分析自被測試樣表面反射光束的橢圓偏振狀態的變化,可以探測到比測量光的波長還要小的膜厚信息,甚至下降到單原子薄膜的信息。橢偏儀可以探測復折射指數或介電函式張量,獲得相關的物理參數和性能,包括形態,晶體質量,化學成分,或電導率。它通常用來表征薄膜厚度,從幾埃(A)或10納米(nm)到幾個微米(μ...
1.4 硬碟磁記錄技術的發展歷程 參考文獻 2 薄膜材料的製備方法 2.1 物理氣相沉積 2.1.1 真空蒸發鍍膜 2.1.2 濺射鍍膜 2.1.3 其他物理氣相沉積方法 2.2 化學氣相沉積 參考文獻 3 薄膜材料的性能測試和微結構表征方法 3.1 薄膜厚度的測量 3.1.1 台階儀法 3.1.2 電子顯微鏡法 3.2 薄...
通過建立台階高度值與AFM探針形貌之間的蒙特卡洛模型,分析納米台階高度樣板測量的不確定度。將石墨烯薄膜厚度及晶格鍵長作為標準,完成納米台階高度的比對測量;並將台階高度樣板與國內外測量機構進行溯源比對,為納米標準樣板的研究提供理論基礎。結題摘要 隨著納米技術的快速發展,納米器件的性能受幾何尺寸的影響越來越顯...
11.3.6 表面原子分子加工操縱及納米結構構築188 第12章 原子力顯微鏡190 12.1 原子力顯微鏡的結構及工作原理190 12.2 原子力顯微鏡的成像模式192 12.2.1 接觸模式193 12.2.2 非接觸模式193 12.2.3 輕敲模式193 12.3 原子力顯微鏡的特點194 12.4 原子力顯微鏡的套用194 12.4.1 薄膜材料的研究194 ...
12顯微組織結構的內容2 13材料分析技術與材料的關係2 14分析技術簡介2 141X射線衍射2 142光譜分析2 143核磁共振3 144熱分析技術3 145表層分析技術3 146電子顯微鏡3 第2章X射線衍射分析5 21X射線衍射基本概念5 211X射線衍射分析歷史5 212X射線的...
上海復達檢測技術集團有限公司於2019年04月04日成立。法定代表人金賢兵,公司經營範圍包括:檢測服務;質檢技術服務等。願景 成為被社會信賴、受業內推崇、讓員工成就自我的綜合服務型檢測機構。使命 保障品質生活、傳遞行業信任、落實新發展理念。價值觀 科學客觀、獨立公正、誠實守信、合作共贏。儀器設備 500餘台套專業...
13 2006-04-01~2009-03-01 基於納米光電子器件的超高速電信號電光測量方法研究 天津市自然科學基金-重點項目 負責 14 2004-03-01~2006-02-28 納米組裝、加工與檢測的基礎理論研究 教育部天津大學南開大學科技合作項目 負責 15 2004-01-01~2005-12-31 基於計算機視覺和顯微干涉技術的微結構測試方法與設備 國...
從20nm技術節點開始,負顯影技術(Negative Tone Develop, NTD)被廣泛用於關鍵層的光刻。負顯影技術中的關鍵材料是顯影液以及顯影后的沖洗液。它們不再是TMAH和去離子水,而是特殊設計的有機溶劑。光刻膠在顯影液中的溶解行為與光刻膠的靈敏度以及最終圖形的邊緣粗糙度都有關聯。使用高速原子力顯微鏡(High Speed ...
它提供的信息有樣品的組合、表面吸附、表面態、能帶結構、原子和分子的化學結構、化學鍵合情況等。對於分析基底表面物質存在形態以及成鍵方式等方面更有其獨到之處。用XPS結合俄歇電子能譜(AES)表征自組裝膜,可以得到膜的組成和厚度等信息。掃描隧道顯微鏡和原子力顯微鏡 STM和AFM的高解析度顯微技術可以測m物質表面納米...
主要內容包括:光子、電子、離子和電漿及其作用,常用的襯底與薄膜材料,微細圖形技術,薄膜澱積、蝕刻、外延生長、氧化、擴散和離子注入的過程和方法,以及微細結構的光學、電子顯微、聲學、掃描探針顯微等微觀分析和表征手段。作品目錄 第1章 緒論 (1)1.1 微納加工技術的意義 (1)1.2 微電子和光電子工程...
臭氧圖形化碳管薄膜過程示意圖及所得不同圖形的薄膜,標尺為100 mm石墨烯薄膜的套用基礎與關鍵技術研究:建立了高效、低成本、大面積製備石墨烯薄膜的氫鹵酸還原方法,通過簡單的浸泡即實現了氧化石墨烯(GO)薄膜在較低的溫度下(≤100°C)的快速、高效還原,所得石墨烯薄膜的碳氧比可達12以上,體積電導率可以...
實驗5結晶度測定020 實驗6微觀應變與晶粒尺寸的測定024 實驗7表面殘餘應力的測定027 實驗8多晶織構的測定030 實驗9X射線小角衍射分析033 實驗10納米顆粒尺寸與介孔孔徑分布分析036 實驗11薄膜物相定性分析040 實驗12薄膜厚度測定043 實驗13外延生長膜分析048 實驗14原位X射線衍射分析051 第二章電子顯微分析/054 實驗...
軟X射線多層膜技術 在軟X射線多層膜元件研製中,鍍膜材料光學常數是所有計算和設計的基礎。在膜厚為納米量級情況下,鍍膜材料的光學常數既是波長函式,也是膜厚函式。B.L.Henke等人利用測光吸收定出原子散射因子計算的光學常數和D.L.Windt等人利用反射率方法測量的光學常數都對應塊材料或較厚的膜(d≥100nm),而軟...
**篇為基礎篇,主要為金相實驗技術、電子顯微分析、X射線衍射及其物相分析、材料的力學性能、材料的物理性能。第二篇為提高篇,主要為金屬材料、薄膜材料、磁性材料、高分子材料、納米材料。第三篇為特色篇,主要為材料微觀組織的三維分析與表征、EBSD技術在材料微觀組織分析中的套用、材料相變過程及物理性能的計算機模擬...
c 原子力顯微鏡 主要技術指標:掃描範圍:20×20×2μm 解析度:X、Y、Z 測試範圍與服務項目:生物組織、塗層、薄膜、半導體材料的刻蝕結構及納米、微米結構的三維形貌分析、表征 5. 大載荷劃痕儀 主要技術指標:載入力:1~200N 載入力解析度:3mN 摩擦力範圍:0~200N 測試範圍與服務項目:同a 6. 摩擦磨損...