納米圖形發生器是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的分析儀器,於2016年9月2日啟用。
基本介紹
- 中文名:納米圖形發生器
- 產地:加拿大
- 學科領域:信息與系統科學相關工程與技術
- 啟用日期:2016年9月2日
- 所屬類別:分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器 > 圖像分析儀
納米圖形發生器是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的分析儀器,於2016年9月2日啟用。
納米圖形發生器是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的分析儀器,於2016年9月2日啟用。技術指標(1)幫助我們使用FIB製作各種複雜的結構;(2)能夠根據灰度照片進行3D圖形製備。(3)。1主要功能幫助我們使用FI...
納米通用圖形發生器是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年1月9日啟用。技術指標 作圖方式矢量掃描作圖精度採用16位高精度D/A曝光速度圖形發生器控制速度10MHz工件台移動範圍50mm×50mm工件台測量精度60nm(光柵測量)工件台最大移動速度25mm/s曝光範圍20mm×20mm最小線寬≤70nm(W燈絲)圖形拼接精度120nm多場...
納米通用形發生器是一種用於化學領域的電子測量儀器,於2012年12月31日啟用。技術指標 可配備到掃描電鏡(SEM)、聚焦離子束系統(FIB)、掃描探針顯微鏡(SPM)上構建成納米加工設備,進行納米圖形加工和納米微結構製造。主要功能 高速數位訊號處理器(DSP);高精度圖形數據採集器;帶有溫控的16位數模轉換器(D/A);...
納米圖形發生系統 納米圖形發生系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2010年9月15日啟用。技術指標 步長1nm。主要功能 光刻樣品。
電子束曝光圖形發生器是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的分析儀器,於2017年1月1日啟用。技術指標 1.掃描頻率為6MHz,且6MHz都可用於像素的自由選址。 2.曝光光刻膠實際最小線寬低於50nm。 3.設定寫場範圍:0.5μm*0.5μm-2mm*2mm,設計尺寸超出可寫場範圍時可以完成圖像拼。主要功能 用於納米量級...
為滿足納米級電子束曝光系統的要求,JC Nabity的NPGS系統設計了一個納米圖形發生器和數模轉換電路,並採用PC機控制。PC機通過圖形發生器和數模轉換電路去驅動SEM等儀器的掃描線圈,從而使電子束偏轉並控制束閘的通斷。通過NPGS可以對標準樣片進行圖像採集以及掃描場的校正。配合精密定位的工件台,還可以實現曝光場的拼接和...
電子束直寫設備是一種用於材料科學、化學、物理學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2019年10月9日啟用。技術指標 電子槍加速電壓50kV。 束電流範圍5pA~40nA。 最小束斑尺寸2.5nm。 圖形發生器掃描頻率50MHz,20bit解析度,最小步距0.5nm。 寫場範圍:0.5μm~500μm連續可調且無子寫場 。 束流...
成形束系統生產率固然有所提高,但其解析度一般在0.2μm左右,難以製作納米級圖形。近年來研發的投影電子束來曝光系統,既能使曝光解析度達到納米量級,又能大大提高生產率,且不需要鄰近效應校正。在研製中的投影式電子束曝光系統主要有兩種。一種是Lucent公司的SCALPEL系統,平行電子束照射到SiNx薄膜構成的掩模上,...
納軟信息系統有限公司(簡稱納軟系統)是國內領先的納米感測分析系統、實用化視景仿真和可視化套用軟硬體開發商和整體系統解決方案供應商,作為中國的“實用化系統方案專家”,納軟系統致力於成為中國最實用系統化產品和服務的提供商。公司介紹 納軟系統是走自主創新的研髮型企業,以套用為己任,以實用需求為目標,為軍事...
70年代,研製開發了分步重複自動照相機、圖形發生器、光刻機、電子束曝光機工件台等半導體設備,其中“分步相機”套用於全國100多個廠家,受到好評;研製了多種磁碟測試儀器,促進了我國電子工業的發展。“七五”、“八五”期間,面向大型機械製造業的大尺寸測量研究達到世界先進水平,研製的大型電站發電機組狀態監測與故障...
70年代,研製開發了分步重複自動照相機、圖形發生器、光刻機、電子束曝光機工件台等半導體設備,其中“分步相機”套用於全國100多個廠家,受到好評;研製了多種磁碟測試儀器,促進了我國電子工業的發展。“七五”、“八五”期間,面向大型機械製造業的大尺寸測量研究達到世界先進水平,研製的大型電站發電機組狀態監測與故障...
參加的圖形發生器、分步重複照相機獲全國科技大會科研成果獎,頻移型雷射測速儀、亞微米微位移工作檯設計理論與方法的研究獲國家教委科技進步獎,數字均勻場補償器、微小尺寸測量理論與技術的研究獲北京市科技進步獎,多功能線寬輪廓測量儀、多層膜厚測量儀、台階測量儀榮獲“七五”、“八五”國家重點科技攻關重大成果獎...
最早 的二元光學製作工藝是用圖形發生器和VLSI技術製作二階相位型衍射光學元件。到80年代後期,隨著高解析度掩模版製作技術的發展(如電子束製版解析度可 達到0.1μm),掩模套刻、多次沉積薄膜的對中精度的提高,可以製作多階相位二元光學元件,大大提高了衍射效率。但是離散化的相位以及掩模的對準誤差, 仍影響二元...
《聚焦離子束微納加工技術》是2006年12月1日北京工業大學出版社出版的圖書,作者是顧文琪。內容簡介 本書重點講述聚焦離子束技術的原理;聚焦離子束系統的結構,包括離子源、離子光學柱體、圖形發生器和精密工件台等;還探討了聚焦離子束的有關關鍵技術。目錄 前言 第一章 聚焦離子束技術概論 第一節 積體電路製造中...
解析度:0.8nm 具備自動step and Repeat曝光模式 具備氣體輔助刻蝕功能編輯模組。主要功能 冷場電子槍發射的電子束進行聚焦和調整,形成納米束斑並投射到樣品表面,入射電子與樣品相互作用激發出多種信號,通過探測器檢測,可進行微納米結構和材料的形貌表征。 電子束配合圖形發生器和束閘,可以實現電子束光刻加工。
它通過由特殊薄膜構成的掩模,經過不同的光闌孔,形成需要曝光的圖形角度,再利用分布重複技術,形成所要求的圖形。既能使曝光解析度達到納米量級,又能大大提高生產率,且不會產生鄰近效應。組成 NBL 電子束曝光機是一款基於 SEM 電子束曝光系統的直寫設備,如圖 1所示,它主要由主機、邏輯電路、高壓電櫃、觸摸控制...
集成晶片(integrated chips)是指先將電晶體集成製造為特定功能的芯粒(Chiplet),再按照套用需求將芯粒通過半導體技術集成製造為晶片。其中,芯粒(Chiplet)是指預先製造好、具有特定功能、可組合集成的晶片(Die),也有稱為“小晶片”,其功能可包括通用處理器、存儲器、圖形處理器、加密引擎、網路接口等。2024年11...
在微電子學、半導體材料、納米材料、固體力學、電子與通信、太陽能等領域發表論文共221篇,其中SCI收錄99篇,EI收錄66篇;專著3篇;登記軟體著作權20項,積體電路布圖設計12項。氧化物阻變存儲器機理與性能調控項目榮獲2016年自然科學二等獎。電子期刊 《芯天地》是一本創刊於2007年中國科學院微電子研究所主辦的電子...
第8章 圖形發生器 8.1粒子束刻蝕法 8.2電子束的物理特性 8.3掩模版的製造 8.4將掩模版作為工具 8.5掩模版檢查、缺陷和修復 8.6習題 參考文獻與相關閱讀材料 第9章 光刻 9.1光刻設備(對準和曝光)9.2解析度 9.3基本圖形形狀 9.4對準和套準 9.5習題 參考文獻與相關閱讀材料 第10章 光刻圖形化 10...
截至2012年晚期,數十億級別的電晶體處理器已經得到商用。隨著半導體製造工藝從32納米水平躍升到下一步22納米,這種積體電路會更加普遍,儘管會遇到諸如工藝角偏差之類的挑戰。值得注意的例子是英偉達的GeForce 700系列的首款顯示核心,代號‘GK110’的圖形處理器,採用了全部71億個電晶體來處理數字邏輯。而Itanium的大...
- SIMD引擎陣列(GPU圖形核心),支持DX11 - 第三代UVD視頻解碼器,支持H.264、VC-1、DivX/XviD - 64位單通道DDR3-1066/800記憶體控制器,支持兩組DIMM,電壓1.35/1.5V - BGA封裝 山貓架構是Zacate/Ontario APU之中CPU部分的基礎。從微架構方面看,其主要特點有雙x86解碼器、高級分支預測器、完整亂序執行...
這種感測器的另一個問題是,如何使感測器的多通道放大器之間有較好的匹配,這可以通過降低殘餘水平的固定圖形噪聲較好地實現。由於CMOS APS像素內的每個放大器僅在此讀出期間被激發,所以CMOS APS的功耗比CCD圖像感測器的還小。填充因數 這填充因數(Fill Factor),又叫充滿因數,它指像素上的光電二極體相對於像素表面...
1958年研製了中國第一台數控工具機,與美、蘇、日幾乎同步,並獲國家科委新技術獎;1960年代參加完成了中國第一台核反應堆池殼的焊接製造任務,與企業合作研製了中國第一台真空電子束焊機、第一台60MN 自由鍛液壓機、第一台劈錐銑等;1970年代為中國積體電路製造行業研製開發了分步重複自動照相機、圖形發生器、光刻機...
CMP裝備主要由拋光頭、拋光碟、修整器、拋光液輸送系統等部分組成,而拋光頭及其壓力控制系統是其中最關鍵、最複雜的部件,是CMP技術實現納米級平坦化的基礎和核心。目前國外最先進的300mm晶圓拋光頭採用氣壓方式載入,具有分區壓力、真空吸附、浮動保持環及自適應等功能,十分複雜。隨著特徵尺寸不斷減小和晶圓直徑不斷...
5.3高速雷射熱敏納米光刻 5.3.1光熱局域化分析 5.3.2基於高速旋轉縮短曝光時間 5.3.3雷射熱敏納米光刻 5.4雷射熱敏光刻的任意特徵尺寸調整 5.4.1仿真和分析 5.4.2跨尺度圖形結構製造 5.4.3複雜圖形結構製造 5.5本章小結 參考文獻 第6章基於有機薄膜的雷射熱敏光刻 6.1引言 6.2基於熱...
ALTER 替換/修改 (修改存儲器中程式的字元或符號)AUTO 自動操作方式 (工具機在此方式,工具機可自動加工作業)AUX GRAPH 圖形顯示 (圖形顯示功能)以“C”字母開頭 CAN 取消鍵 (取消已鍵入緩衝器的字元或符號)CHECK 檢視(軟鍵)CSTM/GR 模擬框圖形 CURRNT 單節 CURSOR 游標移動鍵 (移動CRT里的游標,可至...
投影圖像的特徵尺寸若具有較差的圖像對比度,將會對劑量變化過於敏感。社會影響 2023年12月,光刻機入選2023年十大科技熱詞。各國現狀 2024年5月據塔斯社報導,俄羅斯首台光刻機已經製造完成並正在進行測試。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長 Vasily Shpak 表示,該設備可確保生產 350 納米工藝的晶片。
1995年中國科學院上海原子核研究所研製成了Si(Li)探測器,能量解析度為152eV。中國科學院北京科學儀器研製中心也生產了X射線能譜分析系統Finder-1000,硬體借鑑Noran公司的功能電路,配以該公司的探測器,採用Windows作業系統,開發了自己的圖形化能譜分析系統程式。2.X射線波譜儀和電子探針儀現代SEM大多配置了EDS探測器...
顯存控制器最多能夠對224MB的記憶體定址,但是隨後的一次視頻bios 更新把這個限制在了128 MB。顯示核心用於顯示和渲染的時鐘發生器是不同的。顯示部分包含一個 400MHzRAMDAC,2個25-200Mpixel/s 的串列 DVO連線埠。同時在移動晶片組中,還包括兩個18 bit 25-112MHzLVDS轉換器。GMA 950 GMA 950是第二款以Intel圖...