電子束曝光圖形發生器

電子束曝光圖形發生器是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的分析儀器，於2017年1月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：電子束曝光圖形發生器
• 產地：德國
• 學科領域：工程與技術科學基礎學科
• 啟用日期：2017年1月1日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器

技術指標

1.掃描頻率為6MHz，且6MHz都可用於像素的自由選址。 2.曝光光刻膠實際最小線寬低於50nm。 3.設定寫場範圍：0.5μm*0.5μm-2mm*2mm，設計尺寸超出可寫場範圍時可以完成圖像拼。

主要功能

用於納米量級圖形的製備。