粒徑跟蹤分析系統是一種用於化學領域的物理性能測試儀器，於2016年12月23日啟用。
基本介紹
- 中文名：粒徑跟蹤分析系統
- 產地：美國
- 學科領域：化學
- 啟用日期：2016年12月23日
- 所屬類別：物理性能測試儀器 > 顆粒度測量儀器 > 粒度分布測量儀
技術指標,主要功能,
技術指標
1.1 納微米粒度 1雷射器(35mW640nm，200mw532nm固體雷射器) 2粒度測量範圍：0.3nm-10000nm 3典型精度：1％ 4重複性：0.4% 5標準樣品池體積：1-3ml 6微量樣品池：10uL或50uL 7樣品濃度：0.1ppm-40%體積濃度 8溫度控制：-5－110℃, ±0.1℃ 9散射角：三角度測量，15°、90°與173°精確測量不同粒度、分布的樣品 10相關器： 4通道輸入；支持兩路互相關，1011線性通道；動態可變採樣時間、延遲時間、通道分配等技術； 1.2、微流變部分：微流變測試功能：動態光散射為基礎的光學微流變技術,採用示蹤探測顆粒測量材料中壓應力與變形之間的關係。
主要功能
廣泛套用於微乳液、 高分子、碳材料等顆粒表征和表面電荷電位測量。納米顆粒跟蹤分析技術，通過動態光散色採集納米顆粒的布朗運動速度，結合斯托克斯-愛因斯坦方程得到顆粒的流體力學尺寸的信息。該儀器和動態光散色技術的完美結合，通過顆粒的數量分布，數量平均粒徑，光強分布和平均粒徑，分析複雜體系中的高解析度粒徑跟蹤檢測功能。
