中文名稱 | 氣相雷射輔助反應法 |
英文名稱 | laser induced chemical vapor deposition |
定 義 | 以雷射為熱源,利用反應氣體分子對特定波長雷射束的吸收並產生熱解或化學反應,通過瞬時完成氣相反應成核、長大和終止,並形成超細微粒的製備方法。 |
套用學科 | 材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),材料合成、製備與加工(三級學科),粉體製備技術(四級學科) |
中文名稱 | 氣相雷射輔助反應法 |
英文名稱 | laser induced chemical vapor deposition |
定 義 | 以雷射為熱源,利用反應氣體分子對特定波長雷射束的吸收並產生熱解或化學反應,通過瞬時完成氣相反應成核、長大和終止,並形成超細微粒的製備方法。 |
套用學科 | 材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),材料合成、製備與加工(三級學科),粉體製備技術(四級學科) |
中文名稱 氣相雷射輔助反應法 英文名稱 laser induced chemical vapor deposition 定義 以雷射為熱源,利用反應氣體分子對特定波長雷射束的吸收並產生熱解或化學反應...
中文名稱 雷射輔助化學氣相沉積 英文名稱 laser assisted chemical vapor deposition 定義 利用雷射光子能量促進化學反應降低反應溫度的化學氣相沉積技術。 套用學科 ...
雷射誘導氣相沉積法(LICVD)。是指利用反應氣體對特定波長雷射束的吸收而產生熱解或化學反應,經過核生長形成超細粉末。整個過程實質上是一個熱化學反應和晶粒成核與...
化學氣相沉積包括常壓化學氣相沉積、電漿輔助化學沉積、雷射輔助化學沉積、金屬有機化合物沉積等。氣相沉積法分類 編輯 CVD技術常常通過反應類型或者壓力來分類,包括...
雷射熱解氣相色譜法:用雷射裂解器作為進樣器的氣相色譜法。在雷射照射下,試樣溫度升高而裂解,產物被載氣帶人色譜儀進行分離檢測:這種裂解裝置升溫速度快,裂解溫度...
採用等離子或雷射輔助技術可以降低沉積溫度。化學氣相沉積法分類 編輯 化學氣相沉積的方法很多,如常壓化學氣相沉積(Atmospheric pressure CVD,APCVD)、低壓化學氣相沉積(...
雷射化學氣相沉積 外文名 無 類型 氣相沉積 特點 雷射化學 雷射化學氣相沉積是通過使用雷射源產生出來的雷射束實現化學氣相沉積的一種方法V...
化學氣相沉積是通過氣相物質在工件表面上進行化學反應,反應生成物在工件表面形成...另外,利用雷射輔助CVD沉積技術,可以獲得快速非平衡的薄膜,膜層成分靈活,並 能...
雷射與氣相沉積複合技術比較適合於有色金屬和陶瓷塗層的塗覆,如鋁合金表面的塗覆要比鋼鐵困難,因鋁合金與塗覆材料的熔點差別太大,而且在鋁合金的表面還存在高緻密度...
固體雷射材料分為兩類。一類是以電激勵為主的半導體雷射材料,一般採用異質結構,由半導體薄膜組成,用外延方法和氣相沉積方法製得。根據雷射波長的不同,採用不同摻雜...
{,的原料濃度為596 (poi),觸媒粒子為二茂鐵,用1U . 59}xrn的C}h雷射照射,在常壓卜的石英反應器中滯留Ih,便製得氣相法碳纖維,再於10U0℃的CL無中活化2...
射頻電漿化學氣相沉積法 (RF-PECVD)是PECVD中製備CBN的最典型的方法。此外,還有雷射輔助電漿化學氣相沉積法(LA-PECVD)、雙源電漿化學氣相沉積法(DB-...