掩模基板雙折射

掩模上的吸收層（absorber）隨溫度的熱脹冷縮（thermal expansion）會在掩模表面形成應力，掩模保護膜（pellicle）的蒙貼也會產生應力，這些應力的存在會導致掩模基板發生雙折射，稱為掩模基板雙折射。

基本介紹

• 中文名：掩模基板雙折射
• 外文名：mask blank birefringence

掩模基板雙折射如圖1所示，雙折射產生兩束不同方向的折射光，分別對應TE和TM極化（電場）。掩模基板雙折射的性能由參數B來定量表示，B是垂直入射時兩束折射光在介質中傳播單位距離後所產生的光程差，單位是nm/cm。B越大，雙折射效應越明顯。

掩模基板雙折射會導致光刻工藝視窗變小，雙折射參數B越大，線寬與目標值的偏差就越大。