《硬面光掩模基板》 是1996年8月1日實施的一項中國國家標準。 基本介紹 中文名：硬面光掩模基板外文名：Hard surface photomask substrates標準號：GB/T 15871-1995標準類別：產品 編制進程,起草工作, 編制進程1995年12月22日，《硬面光掩模基板》發布。1996年8月1日，《硬面光掩模基板》實施。起草工作主要起草單位：長沙韶光微電子總公司 。
