大面積離子注入與沉積設備是一種用於材料科學領域的科學儀器，於2013年4月28日啟用。
基本介紹
- 中文名：大面積離子注入與沉積設備
- 產地：中國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2013年4月28日
技術指標,主要功能,
技術指標
濺射靶直徑100CM，真空1.0×10-3Pa。
主要功能
雙靶中頻磁控濺射。
大面積離子注入與沉積設備
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