場發射掃描電鏡及附屬設備是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2012年12月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:場發射掃描電鏡及附屬設備
- 產地:日本
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2012年12月1日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
場發射掃描電鏡及附屬設備是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2012年12月1日啟用。
場發射掃描電鏡及附屬設備是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2012年12月1日啟用。技術指標SM--76000BU。1主要功能科研用,測試樣品各項參數。1...
場發射掃描電鏡 SUPRA 40是一款高解析度場發射掃描電子顯微鏡,擁有第三代GEMINI 鏡筒,可變壓強性能加上多種納米工具的使用,不用花費大量時間,使高解析度成像和非導體樣本的分析成為可能,超大的樣品室適合各種類型探頭及配件的選擇。該場...
該設備適用於物理、材料、半導體、超導體、化學高分子、地質礦物、生物、醫學等領域的微觀研究和分析。儀器類別: 0304070201 /儀器儀表 /光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /掃描式電子顯微鏡 指標信息: 二次電子成像,背散射成像,陰極...
熱場發射掃描電鏡系統是一種用於地球科學領域的分析儀器,於2017年11月28日啟用。技術指標 熱場發射掃描電鏡二次電子像解析度:0.8nm@15KV、1.6nm@1KV,Schottky型場發射電子源,掃描透射像探測器,帶能譜儀、EBSD、冷台、臨界點乾燥...
高解析度場發射掃描電鏡 高解析度場發射掃描電鏡是一種用於物理學、化學領域的分析儀器,於2016年12月20日啟用。技術指標 解析度:1.0nm(加速電壓15KV);2nm(加速電壓1KV)。主要功能 形貌觀察、微區分析。
超高分辨熱場發射掃描電鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年9月10日啟用。技術指標 加速電壓0.3-30kV,解析度1nm,放大倍數18倍至30萬倍連續可調,成像信號:二次電子、背散射電子和特徵X射線。主要功能 固體物質表面形貌觀察...
冷場發射式掃描電鏡 冷場發射式掃描電鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2010年9月29日啟用。技術指標 二次電子解析度:1.0nm(15KV)。主要功能 所有固體材料的分析與觀察。