簡介
基本原理
坩堝下降法一般採用自發成核生長晶體,其獲得單晶體的依據就是晶體生長中的幾何淘汰規律,在一根管狀容器底部有三個方位不同的晶核A、B、C,其生長速度因方位不同而不同。假設晶核B的最大生長速度方向與管壁平行,晶核A和C則與管壁斜交。在生長過程中,A核和C核的成長空間因受到B核的排擠而不斷縮小,在成長一段時間以後終於完全被B核所湮沒,最終只剩下取向良好的B核占據整個熔體而發展成單晶體,這一現象即為幾何淘汰規律。
優缺點
優點
1、 由於可以把原料密封在坩堝里,減少了揮發造成的泄漏和污染,使晶體的成分容易控制。
2、 操作簡單,可以生長大尺寸的晶體。可生長的晶體品種也很多,且易實現程式化生長。
3、 由於每一個坩堝中的熔體都可以單獨成核,這樣可以在一個結晶爐中同時放入若干個坩堝,或者在一個大坩堝里放入一個多孔的柱形坩堝,每個孔都可以生長一塊晶體,而它們則共用一個圓錐底部進行幾何淘汰,這樣可以大大提高成品率和工作效率。
缺點
1、 不適宜生長在冷卻時體積增大的晶體。
2、 由於晶體在整個生長過程中直接與坩堝接觸,往往會在晶體中引入較大的內應力和較多的雜質。
3、在晶體生長過程中難於直接觀察,生長周期也比較長。
4、若在下降法中採用籽晶法生長,如何使籽晶在高溫區既不完全熔融,又必須使它有部分熔融以進行完全生長,是一個比較難控制的技術問題。
總之,B-S法的最大優點是能夠製造大直徑的晶體(直徑達200mm),其主要缺點是晶體和坩堝壁接觸容易產生應力或寄生成核。
套用領域
坩堝下降法主要用於生長鹼金屬和鹼土金屬的鹵族化合物(例如CaF2、LiF、NaI等)以及一些半導體化合物 (例如AgGaSe2、AgGaS2、CdZnTe等)晶體。