反應性真空濺射reactivevacuumsputtering:通過與氣體的反應獲得理想化學成分的膜層材料的真空濺射。...
真空磁控濺射技術是指一種利用陰極表面配合的磁場形成電子陷阱,使在E×B的作用下電子緊貼陰極表面飄移。設定一個與靶面電場正交的磁場,濺射時產生的快電子在正交的...
濺射工藝是以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面,使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下...
磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電,使氬氣發生電離。...
真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型,它們都是採用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常...
《真空濺射鍍膜設備》是2010年機械工業出版社出版的圖書,作者是本社。...... 《真空濺射鍍膜設備》是2010年機械工業出版社出版的圖書,作者是本社。書名 真空濺射鍍...
《真空鍍膜技術》共分10章,系統地闡述了真空鍍膜技術的基本慨念和基礎理論、...如反應磁控濺射鍍膜技術、中頻磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜技術等;還詳細介紹...
簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被塗覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固並沉積的方法,稱為真空鍍膜。...
由於濺射時,濺射室中所填充的氣體和陰極濺射原子的作用不同,因而有中性濺射和反應濺射兩種。如果把濺射室(真空室)抽真空到10-3汞柱,然後打開進氣針閥,讓純氬氣...
真空沉積技術是真空鍍膜。真空氣相沉積是利用熱蒸發或輝光放電、弧光放電等物理...它包括真空蒸發鍍膜、離子鍍膜和濺射。另外,引入反應氣體 ( O2, N2, CH4, ...
真空鍍膜設備,主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD雷射濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和...
原子就會由其表面蒸發出來,蒸發原子被惰性氣體冷卻而凝結或與活性氣體反應而形成...濺射系統:磁控濺射儀的真空室中有三個磁控陰極靶,被水冷套冷卻。真空室上部放置...
物理氣相沉積是通過蒸發,電離或濺射等過程,產生金屬粒子並與反應氣體反應形成化合物沉積在工件表面。物理氣象沉積方法有真空鍍,真空濺射和離子鍍三種,套用較廣的是...