半導體器件物理與工藝(1976年科學出版社出版的圖書)

半導體器件物理與工藝(1976年科學出版社出版的圖書)

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《半導體器件物理與工藝》是1976年科學出版社出版的圖書,作者是(美)A.S.格羅夫。

基本介紹

  • 中文名:半導體器件物理與工藝
  • 作者:(美)A.S.格羅夫
  • 出版時間:1976年
  • 出版社:科學出版社
  • 統一書號: 15031.117  
內容簡介,圖書目錄,

內容簡介

本書是關於矽平面器件工藝和物理方面的一本導論,共十二章,分三篇.第一篇共三章,介紹外延、氧化、擴散工藝的原理.第二篇共五章,介紹半導體物理的有關結論以及p-n結、結型電晶體和結型場效應電晶體的原理.第三篇共四章,討論半導體器件生產、科研中較為重要的問題——半導體表面問題,包括表面的一般理論,矽-二氧化矽系統的性質,表面對p-n結的影響,以及表面場效應電晶體.
本書可供從事半導體器件方面工作的工人、技術人員和研究人員,以及大專院校有關專業師生參考.

圖書目錄

  • 譯者前言
  • 目錄
  • 導言 平面工藝
  • 第一篇 固態工藝
  • 第二篇 半導體和半導體器件
  • 第三篇 表面效應和表面控制器件
  • 本書所用符號表
  • 一些重要的數

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