基本介紹
- 中文名:刻蝕後檢測
- 外文名:After Etching Inspection
- 簡稱:AEI
目的,作用,
刻蝕後檢(測)(After Etching Inspection,AEI),即刻蝕後的CD測量。在刻蝕製程光刻膠去除前及光刻膠去除後,分別對產品實施全檢或抽樣檢查。AEI一般用於檢測刻蝕機...
終點檢測是指在乾法刻蝕不同於濕法腐蝕(它對下面的材料沒有好的選擇比)的情況下,需要進行終點檢測來監測刻蝕工藝並停止刻蝕以減小對下面材料的過度刻蝕。...
等離子刻蝕機,又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、電漿刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。等離子刻蝕,是乾法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是暴露在...
因而,在生產過程中必須建立相應的系統和精確的監控措施,首先要從半導體工藝檢測著...表面污染、傷痕等,刻蝕圖形的線條長、寬、直徑間距、套刻精度、解析度以及陡直、...
此外,由於檢測源為電子束,檢測結果不受某些表面物理性質例如顏色異常、厚度變化或前層缺陷的影響,因此電子束檢查技術還可用於檢測很小的表面缺陷例如柵極刻蝕殘留物等...
表面清潔與濕法刻蝕、摻雜、化學機械平坦化,器件參數與工藝相關性,DFM(Design for Manufacturing),積體電路檢測與分析、積體電路的可靠性,生產控制,良率提升,晶片測試...
7.3.3 滾輪攜液方式的濕法刻蝕7.4 矽片周邊表面刻蝕後的質量檢查參考文獻第8章 減反射膜製備8.1 減反射膜的減反射原理8.2 氮化矽減反射薄膜...