冷凍蝕刻

冷凍蝕刻是指將標本置於-100˚C的乾冰或-196˚C的液氮中進行冰凍，然後用冷刀將標本斷開，升溫後冰在真空條件下迅即升華，暴露出斷面結構。

基本介紹

• 中文名：冷凍蝕刻
• 外文名：Freeze etching
• 屬性：蝕刻
• 環境：-100˚C的乾冰或-196˚C的液氮中

蝕刻後，向斷面以45度角噴塗一層蒸汽鉑，再以90度角烏拜您棕噴塗夜請酷道一層碳，櫻多灶加強反差和強度。然後用次氯酸鈉溶液消化樣品，把碳和鉑的膜剝下來，此膜即為復膜（replica）。復膜顯示出了標恥盛估洪尋符本蝕炒翻刻面的形態，在電鏡下得到的地夜旋影像即代表標本中細胞斷裂面處的結構。