光致抗蝕材料是指高分子材料經光照輻射後,分子結構從線型可溶性的轉變為體型不可溶的,從而產生了對溶劑的抗蝕能力。而光致誘蝕材料正相反,當高分子材料受光照輻射後,感光部分發生光分解反應,從而變成可溶性。目前廣泛使用的預塗感光版,簡稱PS版式,就是將感光材料樹脂預先塗在親水性的基材上製成的。
光致抗蝕材料是指高分子材料經光照輻射後,分子結構從線型可溶性的轉變為體型不可溶的,從而產生了對溶劑的抗蝕能力。而光致誘蝕材料正相反,當高分子材料受光照輻射後,感光部分發生光分解反應,從而變成可溶性。目前廣泛使用的預塗感光版,簡稱PS版式,就是將感光材料樹脂預先塗在親水性的基材上製成的。
光致抗蝕材料是指高分子材料經光照輻射後,分子結構從線型可溶性的轉變為體型不可溶的,從而產生了對溶劑的抗蝕能力。而光致誘蝕材料正相反,當高分子材料受光照...
光敏抗蝕膠,又稱光固化膠粘劑,感光膠粘劑或光敏膠粘劑等。一種依靠光能引發固化的膠粘劑。...
光致抗蝕劑及其配套化學品phntoresist agent and its con-r}letc set ehetnicals光致抗蝕劑又稱光刻膠,它是一腫光敏高分子聚合物。當它受到光能照射時,分子...
利用波長為200一 叨加n:的深紫外線進行光刻的抗蝕劑,由於波長短,可減少 衍射效應,深紫外光刻的解析度可達0 .5拜。,但實際解析度約 為1一1 .5胖m。一般說...
主要用途 將無溶3}if型光致抗蝕劑塗在滌綸片基上,再覆_「聚乙烯薄漠。使用時揭去聚乙烯薄膜把乾膠層壓在版1}上,經曝光顯影處理,即可形成圖像.主要是利用...
紫外光固化塗料,即液態光致抗蝕劑,由活性齊聚物、活性單體、顏料、添加劑和光敏引發劑等組成。其中,主要成膜物質齊聚物必須具備不飽和基團;活性稀釋劑單體亦必須...
負性光致抗蝕劑,是一種含有感光劑的聚合物,在微電子器件和積體電路的圖形曝光技術中採用的一種輻照敏感化合物。...
光致酸產生劑陰離子和陽離子的化學結構能夠決定或影響光致酸產生劑的特徵和性質,如不同陰離子的結構會導致光致抗蝕劑輻照後產生的光酸活性不同,不同的化學組成...
本書分為光伏材料物理實用基礎和光伏材料化學實用基礎兩篇。主要內容包括光伏材料...12.3光刻工藝的化學原理8212.4其他光致抗蝕劑的介紹84模組十三表面鈍化和鍍...
感光膠又稱感光乳膠、光致抗蝕劑,它和感光膜(又稱菲林膜)都是當前普遍使用的感光材料。...
一般泛指電子工業使用的專用化學品和化工材料,即電子元器件、印刷線路板、工業及消費類整機生產和包裝用各種化學品及材料。按用途可分成基板、光致抗蝕劑、電鍍化學...
其固化是在一定強度和波長的紫外光作用下實現的。這種膠粘劑一般用於透明材料(至少被膠接材料的一面應是如此)膠接和作為光致抗蝕劑(光刻膠)用於微型電路和集成...
根據高分子材料發生變化的性質劃分包括吸收光能後發生光聚合、光交聯或光分解等化學變化的光致抗蝕劑、光敏膠和光敏塗料等;吸收光能後發生髮射螢光、光致變色、電導...
光學掩模板在薄膜、塑膠或玻璃基體材料上製作各種功能圖形並精確定位,以便用於光致抗蝕劑塗層選擇性曝光的一種結構。掩膜版套用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領域都需要...
光信息存儲材料、光致變色材料、發光材料、光導材料、高分子光功能材料和光折變...4.4.1 光致抗蝕劑1514.4.2 光固化塗料與油墨1524.4.3 光固化膠黏劑152...
光刻加工原理與印刷技術中的照相製版類似,在矽(Si) 半導體基體材料上塗覆光致抗蝕劑,然後利用紫外光束等通過掩膜對光致抗蝕劑層進行曝光,經顯影后在抗蝕劑層...
感光膠又稱感光乳膠、光致抗蝕劑,它和感光膜(又稱菲林膜)都是當前普遍使用的感光材料。感光膠用於直接法製版,一般分為單液型和雙液型兩種,單液型感光膠在生產...