基本介紹
- 中文名:光刻分子膠
- 外文名:Molecular Resist
光刻分子膠本質上是一種的聚合物化學放大膠,例如基於羥基苯乙烯聚合物的膠。光刻膠中使用的分子膠是典型的聚合物化學放大膠,分子量介於2500至30000之間,所對應的迴轉半徑約為1~3nm,分子鏈的有效長度是3~9nm。與分...
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕塗層材料。半導體材料在表面加工時,若採用適當的有選擇性的光刻膠,可在表面上得到所...
環氧光刻膠,這種光刻膠的對比度對可以通過調節環氧與酚醛基團之間的比例來改變。環氧光刻膠的基本工作機理是首先酸激發的聚合反應,圖1(a)是這一聚合反應的方程式。在曝光區域,光致酸產生劑在光子的作用下產生酸;環氧分子在酸的作用下聚合形成聚合物。然後環氧分子與酚醛反應,形成交聯,圖1(b)是這一聚合...
光致抗蝕劑 用於光加工工藝的光敏高分子,通稱光致抗蝕劑(又稱光刻膠),大量用於印刷製版和電子工業的光刻技術中。它的工作原理是受光部分發生交聯,生成難溶性的硬化膜,經加工成負像(負性膠);或者是原來的不溶性膠受光照後變為可溶性的,經加工得正像(正性膠)。通常用的光致抗蝕劑有:①聚肉桂酸...
PMMA光刻正膠 聚甲基丙烯酸甲酯(PolyMethylMethacrylate,PMMA)是一種聚合體,它是由單體(MMA)聚合而成,聚合體俗稱有機玻璃或亞克力,具有高透明度,通常被使用作為玻璃的替代材料。MMA單體的分子量為100,組成聚合體分子鏈的單體數量可達到數千個,分子量為100000量級。PMMA聚合體的物理化學特性在很大程度上取決於分子...
因為浸沒式光刻系統的原理清晰而且配合現有的光刻技術變動不大,目前193nm ArF準分子雷射光刻技術在65nm以下節點半導體量產中已經廣泛套用;ArF浸沒式光刻 技 術 在45nm節 點 上 是 大 生 產 的 主 流 技 術。為把193i技術進一步推進到32和22nm的技術節點上,光刻專家一直在尋找新的技術,在沒有更好的新光...
③光交聯型,採用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其分子中的雙鍵被打開,並使鏈與鏈之間發生交聯,形成一種不溶性的網狀結構,而起到抗蝕作用,這是一種典型的負性光刻膠。柯達公司的產品KPR膠即屬此類。感光樹脂在用近紫外光輻照成像時,光的波長會限制解析度(見感光材料)的提高。為進一步提高...
具體分為三步:第一步,顯影液中的有效成分(TMAH分子)擴散到光刻膠所在的位置;第二步,TMAH分子與光刻膠發生化學反應;第三步,反應的生成物溶解於顯影液中,並在顯影液中擴散。發展方向 (1) 建立更準確的針對化學放大膠的模型 (2) 建立浸沒式光刻中水與光刻膠相互作用的模型 (3) 光刻膠和抗反射...
鄰益氮縈醒光刻膠dixu}naphthnyuinone phntnresist常月J的正性光刻咬。其主要成分有鄰餐氮蔡釀系化合物、鹼溶性高分子類成膜劑(多採用線性酚醛樹脂)、溶劑及其他添加通常用弱鹼水溶液作為顯影液。曝光過程中,見光部分發生光化學反應,由鹼不溶變成鹼可溶,將溶於鹼的見光部分洗去,留下鹼不溶的未見光的部分...
光刻負膠,樹脂是聚異戊二烯,一種天然的橡膠;溶劑是二甲苯;感光劑是種經過曝光後釋放出氮氣的光敏劑,產生的自由基在橡膠分子間形成交聯。從而變得不溶於顯影液。負性光刻膠在曝光區由溶劑引起泡漲;曝光時光刻膠容易與氮氣反應而抑制交聯。光刻膠 光刻膠的組成:樹脂( resin,polymer),光膠中不同材料的黏合...
旋塗的有機碳(spin on carbon,SOC)中碳的含量達80%~90%。這種三層結構既能有效地減少曝光時的反射,又能提高刻蝕時的選擇性,因此被廣泛套用於45nm技術節點以下的光刻工藝中。三層材料返工的關鍵是SiARC,因為它含有矽,具有完全不同於一般光刻膠的分子結構。SiARC必須使用新的返工工藝。
光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是指在紫外光、電子束、離子束、X-射線等的照射或輻射下溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料。光刻膠在積體電路晶片製造工藝方面占據特殊地位,積體電路的集成度越高,對光刻膠的要求也越高。2005年5月前先進的積體電路生產線均採用投影曝光步進機,光刻加工線寬越小,曝光機的波長越短,而...
2.旋轉烘膠 3.軟烘 4.對準和曝光 5.曝光後烘焙(PEB)6.顯影 7.堅膜烘焙 8.顯影檢查 光刻 光刻是平面型電晶體和積體電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化矽)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。準分子光刻技術 準分子光刻技術作為當前主流的光刻技術,主要包括:特徵...
光刻膠溶劑是指積體電路製造光刻工藝光刻膠配方中所使用的溶劑。光刻膠溶劑選取的基本原則是聚合物在其中的溶解度,描述聚合物在有機溶劑里的溶解度由Charles Hansen提出,也被稱為Hansen方法。這種方法用四個物理量來判斷聚合物在某個有機溶劑中的溶解度,分別為色散(D)、極性(P)、氫鍵(H)和相互作用的半徑...
下面以襯底上金屬連線的刻蝕為例講解光刻過程。首先,通過金屬化過程,在矽襯底上布置一層僅數納米厚的金屬層。然後在這層金屬上覆上一層光刻膠。這層光阻劑在曝光(一般是紫外線)後可以被特定溶液(顯影液)溶解。使特定的光波穿過光掩膜照射在光刻膠上,可以對光刻膠進行選擇性照射(曝光)。然後使用前面提到...
紫外光刻膠(UV resist)是用紫外光作曝光光源的光刻膠。一般是指分光感度波長為sao一450nin的近紫外抗蝕劑紫外光刻膠有負性、正性和止一負性兩用三類。負性的代表品種是聚乙烯醇肉桂酸醋、環化橡膠系抗蝕劑、止性代表品種是重氦茶釀系抗蝕劑,正負性抗蝕劑是為丁兼顧其既有.卜性又有負性的性能,往往會...
光敏膠粘劑的組成 光敏膠粘劑主要由光敏樹脂、活性稀釋劑、光引發劑(或稱光敏劑)以及助劑組成,具有高功能、高可靠性、無溶劑、固化迅速、可低溫固化等優點。(1)光敏樹脂 常用的光敏樹脂主要是一些相對分子質量較低的含C═C雙鍵的低聚物,主要有環氧類、聚酯類、聚氨酯類等。其中,聚氨酯丙烯酸酯是我國目前套用...
曝光過程中光刻膠的放氣已經被證明多年,目前仍然在研究過程中,一般來說,曝光過程中聚合物保護基團和光酸產生劑的分解都會導致揮發性化合物的生成。因此在193nm浸沒式光刻工藝中,光刻膠脫氣有可能會在浸沒液中形成氣泡,影響曝光成像的質量。但是實驗並沒有在暴露於水中的光刻膠上發現氣泡,研究人員初步分析有可能...
《紫外亞微米聚矽烷光刻膠的研究》是依託四川大學,由傅鶴鑒擔任項目負責人的面上項目。項目摘要 聚矽烷即主鏈由Si原子組成的高分子,在UV-EUV區域有強吸收並發生光降解,可作亞微米,深亞微米甚至納米級光刻膠,是當前光刻膠發展的一個重要方向。在前期工作基礎上,用已合成和將合成的不同結構聚矽烷為光敏及抗...
感電子高分子是指對電子束敏感的高分子材料,通常作為電子束抗蝕劑。特點 在電子束作用下,聚合物發生降解或交聯,溶解性能發生變化,分別構成正性或負性電子束光刻膠。常見的正性感電子高分子有聚甲摹內烯酸醋、聚烯楓等二常見的負性感電子高分子包括環氧聚合物、聚乙烯肉桂酸酷類和有機矽聚合物等。由於電子束...
感x射線高分子是一個化工學術語。特點 指對x射線敏感的高分子材料,這種材料通常可以作為x光杭蝕劑二與其他光致抗蝕劑一樣,在x光作用下,聚合物發生光降解,或者光交聯,引起溶解度變化,分別構成正性光刻膠和負性光刻膠。一般而言,由士x射線的能量較高,作為匕子束的抗蝕劑多數能夠作為x光杭蝕劑使行,其...
極紫外光刻機,選取了新的方案來進一步提供更短波長的光源。目前主要採用的辦法是將準分子雷射照射在錫滴液發生器上,激發出13.5nm的光子,作為光刻機光源。ASML(阿斯麥) 目前其是全世界唯一一家能夠設計和製造EUV光刻機設備的廠商。根據操作方式的不同。可分為接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻。接觸式光刻...
也可用分子印跡方法進行檢測及淨化。3)醫療診斷方面的套用 臨床癌症診斷中,糖蛋白具有非常重要的作用,南京大學劉震課題組研發了一系列替代抗體檢測癌症標誌物糖蛋白的高靈敏方法。如利用光刻硼酸親和分子印跡法,製備了硼酸親和大孔印跡整體薄層的微陣列晶片,並將其套用於人血清甲胎蛋白AFP的 ELISA檢測。
負性光刻指把與掩模版上圖形相反的圖形複製到矽片表面的光刻技術。負性光刻的基本特徵是當曝光後,負性光刻膠會因交聯而變得不可溶解,並會硬化。一旦硬化,交聯的負性光刻膠就不能在溶劑中被洗清洗掉。因為與正性光刻膠相反,負性光刻膠上的圖形與投影掩模版上的圖形相反,當光刻膠被曝光後,與掩模版相反...
一般光l膠由成膜材料、光敏材料、溶劑及添加劑等組成,光刻膠可按顯影后在光刻膠塗膜上所形成的圖形與掩模圖形關係分為正負型兩種,與掩模圖形相合的為正性光刻膠,反之為負性光刻膠。義可按曝光光源類型分成紫外光刻膠及輻射光刻膠。在光刻過程中所使用的顯影劑、去膜劑、漂洗劑及稀釋齊」統稱光刻膠配套化學...
電子束光刻方法 電子束光刻方法,包括:在結構材料層上形成硬掩模層;在硬掩模層上形成電子束光刻膠;採用電子束曝光系統,對電子束光刻膠進行曝光,其中通過增加曝光劑量來提高電子束光刻膠的抗刻蝕性;採用顯影液對曝光後的電子束光刻膠顯影,形成電子束光刻膠圖形;以電子束光刻膠圖形為掩模,各向異性刻蝕硬掩模...
2.重要的是提高光聚合高分子的感光性 。3.分子量、鏈的柔順性、分子運動轉變溫度及其聚集態結構等都將產生影響。光聚合套用領域 套用領域有:塗料、粘合劑、圖飾材料(油墨、印刷板等)、光刻膠、齒科醫用材料、直接雷射成像技術、三維模具加工技術等。
光交聯型樹脂photocrcsiinking rrsin也稱為光交聯聚合物(plvotocrnsslinkitt; polymer),經常作為負性光刻膠禮光敏塗料。這種樹脂的特點是在光的作用下分子間發生交聯反應,生成不溶性網狀聚合物。這一類材料卞要包括在分子鏈中含有活性不飽和鍵或者可聚合活性點的可溶性聚合物。如聚乙烯醇肉桂酸酷類、聚對亞苯叢二...
懸掛基團的脫落改變了聚合物的極性,有足夠多的懸掛基團脫落後,光刻膠就能溶於顯影液。圖1是光致酸產生劑在光子作用下產生酸;在 PEB 過程中,酸導致懸掛基團脫落,並生成一個新的酸分子,見圖1中的圖(b)。 tBOC 懸掛基團脫落後,聚合物樹脂 PBOCST 就變成了親水的PHOST。圖1 tBOC 膠中的光化學反應。圖...
兩個反應基團必須處於適當距離和適當取向位置才有可能發生反應。2.重要的是提高光聚合高分子的感光性 。3.分子量、鏈的柔順性、分子運動轉變溫度及其聚集態結構等都將產生影響。套用 光聚合的套用領域有:塗料、粘合劑、圖飾材料(油墨、印刷板等)、光刻膠、齒科醫用材料、直接雷射成像技術、三維模具加工技術等。