X射線三維顯微鏡是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2014年10月30日啟用。
基本介紹
- 中文名:X射線三維顯微鏡
- 產地:中國
- 學科領域:機械工程
- 啟用日期:2014年10月30日
- 所屬類別:分析儀器 > X射線儀器
X射線三維顯微鏡是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2014年10月30日啟用。
X射線三維顯微鏡是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2014年10月30日啟用。技術指標X射線源: (A)鎢靶,密封管 (B)靶焦斑:5μm (C)管電壓:150kV (D)管功率:10 W 探測器: (A) 2048X...
三維X射線顯微鏡是一種用於信息科學與系統科學領域的分析儀器,於2016年12月8日啟用。技術指標 極限解析度0.9微米,最小體素尺寸70納米; X射線源:30-160kv透射閉管X射線源; 探測器:閃爍體+光學鏡頭+CCD,像素數量:2048×2048; ...
Xradia (Zeiss)三維X射線顯微鏡是具有超高解析度的無損傷立體顯微成像設備,分辨能力0.7m,可廣泛套用於生物醫學、先進材料、半導體和電子技術、納米技術、石油地質等領域。其基本原理是:先拍攝物體不同角度的投影圖像,然後通過特殊的...
高分辨三維X射線顯微鏡系統 高分辨三維X射線顯微鏡系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2012年7月27日啟用。技術指標 最大電壓160KV最大功率10W移動範圍190mm-290mm。主要功能 各種材料的高分辨X射線無損三維成像。
三維立體成像顯微鏡 三維立體成像顯微鏡是一種用於生物學、材料科學領域的分析儀器,於2010年7月20日啟用。技術指標 空間解析度最高1.25微米。主要功能 X射線吸收成像;非破壞性三維結構成像。
納米x射線顯微鏡 納米x射線顯微鏡是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2015年9月21日啟用。技術指標 三維空間解析度50nm/150nm。主要功能 三維x射線層析。
微米三維立體成像顯微鏡是一種用於材料科學領域的醫學科研儀器,於2011年10月09日啟用。技術指標 微結構立體透視,可穿透金屬(銅、鋁、不鏽鋼等) 尺寸不低於5.0 X 5.0 X 5.0 cm3。主要功能 對樣品進行透射三維成像,斷層掃描。
利用北京同步輻射裝置的硬X射線顯微鏡,首次獲得了緩控釋藥物載體PLGA微球內部複雜孔隙結構的納米分辨三維圖像,定量揭示了微球內部孔隙三維空間結構、空隙分布等結構信息;研究了完整水稻花粉細胞的三維結構與形貌,對胞內細胞器的體積、表面積...
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第四節三維應力及薄膜應力測量80 習題82 第五章多晶體織構測量83 第一節織構分類83 第二節極圖及其測量83 第三節反極圖及其測量88 第四節三維取向分布函式89 習題90 第六章三維X射線顯微鏡92 第一節三維X射線顯微鏡的結構92 第二節...
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掠射式 X射線顯微鏡是利用媒質表面對於掠射角小於臨界角的 X射線具有全反射的特性,製成各種類型聚焦的反射鏡,用來對X 射線源成像。菲涅耳波帶片編碼照相是一種兩步成像技術。它的關鍵成像部件是菲涅耳波帶片,這是由一系列等面積的透明...