X光衍射儀

X光衍射儀

X光衍射儀是一種用於材料科學、電子與通信技術領域的分析儀器,於2008年10月15日啟用。

基本介紹

  • 中文名:X光衍射儀
  • 產地:荷蘭
  • 學科領域:材料科學、電子與通信技術
  • 啟用日期:2008年10月15日
  • 所屬類別:分析儀器 > X射線儀器 > X射線衍射儀
技術指標,主要功能,

技術指標

高壓發生器功率:3KW;電流60mA;電壓 60kV。 X光管:陶瓷管;Cu靶。檢測器:正比充Xe氣計數器,最大計數率1,000,000cps。測角儀:θ/θ和θ/2θ方式,角度重現性±0.00010,2θ範圍-400—1700。樣品XYZ範圍:100mm/100mm/12mm,解析度0.01mm/0.01mm/0.001mm。樣品傾動角(chi):1800,解析度<0.0050。樣品旋轉角(phi):±3600,解析度<0.0050。

主要功能

高分辨x射線衍射儀可用於半導體單晶材料結構分析、應力分析以及位錯研究,對半導體GaN,AlGaN,InN以及GaN/InGaN多量子阱結構材料進行結構,晶體完整性等測試分析。高分辨x射線衍射儀可用於半導體單晶材料結構分析、應力分析以及位錯研究。

相關詞條

熱門詞條

聯絡我們