《Ni-Ti薄膜的研製及其相變行為和形狀記憶效應的研究》是依託南京大學，由王業寧擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：Ni-Ti薄膜的研製及其相變行為和形狀記憶效應的研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：王業寧
- 依託單位：南京大學
- 批准號：59471030
- 申請代碼：E0110
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：1995-01-01 至 1997-12-31
- 支持經費：7.5（萬元）
項目摘要
用磁控濺射法在不同襯底上製備出具不同厚度的Ni-Ti薄膜，給出了不同襯底對Ni-Ti薄膜製備的影響，並探索出最佳晶化條件。給出了使膜脫離襯底的新工藝，發現薄膜的形狀記憶效應具尺寸效應。10μm厚的Ni-Ti膜在最佳晶化條件下晶化後，其記憶效應達體材料水平，即恢復率接近100%，回復力達100MPa，薄膜的相變程式為B2→R相→B'19，馬氏體相和R相均對形狀記憶效應有貢獻。首次用TEM觀測到Ni-Ti膜中具有不同於體材料的新點陳結構，提出了相應的結構模型（Bmmm）和起因，並得到XRE證實。不同的熱處理工藝對膜的晶粒尺寸，SME，第二相析出以及膜的脆性有影響。成功地測定了反鐵電材料的相變行為和驅動效應，並製備出Ni-Ti膜/LiNbO3複合材料。
