《Ni-Ti薄膜的記憶行為及尺寸效應研究》是依託南京大學，由沈惠敏擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：Ni-Ti薄膜的記憶行為及尺寸效應研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：沈惠敏
- 依託單位：南京大學
- 批准號：59771031
- 負責人職稱：教授
- 申請代碼：E0110
- 研究期限：1998-01-01 至 2000-12-31
- 支持經費：12（萬元）
項目摘要
用磁控濺射法在不同襯底上製備出具不同厚度的Ni-Ti基薄膜，並探索出最佳晶化條件及膜厚和熱處理條件對晶粒尺寸和沉澱物尺寸的影響。發現薄膜的形狀記憶效應具尺寸效應。根據形狀記憶合金的雙程記憶效應與內應力有關，製備出不同襯底的雙程膜，由於熱膨脹係數不同，可在記憶合金薄膜中產生內應力而具有雙程記憶效應，並根據熱膨脹係數之差製備出一定厚比的雙程膜而獲較好的雙程記憶效應。製備出相變溫度在100℃以上的高溫形狀記憶合金，其中Ni47Ti43Hf10合金的雙程記憶壽命在2萬次以上，由此製備出薄膜靶材，已用磁控濺射法製備出相應的薄膜，還研究了NiTi基單晶的相變行為和界面動力學以及與界面運動有關的粘滯力和阻尼力等。還測定了反鐵電體的高溫SME。
