Gatan精密刻蝕鍍膜儀

Gatan精密刻蝕鍍膜儀是一種用於物理學、化學、化學工程領域的科學儀器，於2011年3月16日啟用。

基本介紹

• 中文名：Gatan精密刻蝕鍍膜儀
• 產地：美國
• 學科領域：物理學、化學、化學工程
• 啟用日期：2011年3月16日

技術指標

解析度: 0.1 nm 鍍膜速度: 0.01 nm/sec. 樣品尺寸: ≤2 inch(5 cm) 鍍膜速度: 0.01 nm/sec.。

主要功能

精密刻蝕 精密鍍膜,主要用於SEM、TEM、EPMA、EBSD樣品的製備和前置處理。