精密刻蝕鍍膜儀是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2008年12月25日啟用。
基本介紹
- 中文名：精密刻蝕鍍膜儀
- 產地：美國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2008年12月25日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
刻蝕範圍：根據離子槍能量為7mm-10mm不等；刻蝕速率：10.0keV下，矽材料約10μm/小時，鎢材料約3μm/小時；樣本旋轉速率：可變速率10-60rpm；樣品傾斜角度：固定角度或可變搖擺角度（0°- 90°）；樣品搖擺速率：可變速率5°/秒- 36°/秒；厚度監控器：標準-顯示鍍膜速率和全部鍍膜厚度。
主要功能
其刻蝕和濺射鍍膜的樣品滿足掃描電鏡（SEM），透射電鏡（TEM）以及光學顯微鏡（LM）的需求。
