ATO粉體

ATO又稱為摻銻二氧化錫，主要由氧化錫和氧化銻成分來構成，粒徑大部分在5-80納米。

介紹

氧化錫和氧化銻的不同比例所決定不同的性能和套用領域。

廣泛套用於半導體、電子顯現管、LED、節能環保（隔紅外，隔紫外）、防靜電、防輻射等領域。

其主要成分比例為SnO2：Sb2O3=90：10或SnO2：Sb2O3=95：5為比較常見。

特性

物理特性

指標名稱	GN-P-A01
外觀	深藍色粉體
成份	銻錫氧化物
比表面積	65-80㎡/g
配比	SnO2：Sb2O3=90：10或其他配比
粒徑	7-15nm
比電阻	30Ω.cm2（壓塊）
純度	≥99.97%(基於金屬雜質)

導電性

均勻分散的導電納米超微粒子的相互作用形成導電膜，導電膜中電荷移動可實現高透射率和防靜電（30Ω.cm2）

透明性

ATO納米超微粒子對可視光（380nm-780nm）的吸收率極弱，而且對可視光難以散射的大小粒子組成，所以有著高的透明性

隔紅外、隔紫外、防輻射性能

能有效地阻止紅外輻射和紫外線輻射，阻隔紅外效果達80%以上，阻隔紫外效果達65%以上。

套用領域

真空磁控濺射靶材

裝飾和功能鍍膜工業 Decorative & coatings

利用物理或者化學氣相沉積鍍膜，使工件增加防靜電性能能，防輻射性能等。

建築玻璃/汽車玻璃工業、柔性卷繞鍍膜工業

用於大面積磁控濺射鍍膜，如建築玻璃，汽車玻璃，低輻射玻璃，薄膜太陽能電池、ATO Film等工業，增加隔熱性能、隔紫外性能、防輻射性能、防靜電性能等。

光學鍍膜工業

適用於TFT，FED，PDP, OLED和CF（彩色濾光片）等各種顯示器基礎元件的鍍膜及大規模積體電路鍍膜領域。