高純鉬粉用於耐高壓大電流半導體器件的鉬引線、聲像設備、照相機零件和高密度積體電路中的門電極靶材等。
要製備高純鉬粉，必須首先獲得高純三氧化鉬或高純鹵化物。獲得高純三氧化鉬的工藝主要有：
等離子物理氣相沉積法
以空氣等離子處理普通的三氧化鉬，利用三氧化鉬沸點比大多數雜質低的特點，令其在空氣等離子焰中迅速揮發，然後在等離子焰外引入大量冷空氣使氣態三氧化鉬激冷，獲得超純三氧化鉬粉末。
以空氣等離子處理普通的三氧化鉬，利用三氧化鉬沸點比大多數雜質低的特點，令其在空氣等離子焰中迅速揮發，然後在等離子焰外引入大量冷空氣使氣態三氧化鉬激冷，獲得超純三氧化鉬粉末。
離子交換法
將原料粉末溶於聚四氟乙烯容器中加水攪拌，然後以1 L/h的速度向容器中加入濃度為30%的H2O2。所得溶液通過H型陽離子交換劑，將容器中的溶液加熱至95 ℃，抽氣壓力在25 Pa左右保持5小時，濃縮後形成沉澱，即為高純三氧化鉬。
將原料粉末溶於聚四氟乙烯容器中加水攪拌，然後以1 L/h的速度向容器中加入濃度為30%的H2O2。所得溶液通過H型陽離子交換劑，將容器中的溶液加熱至95 ℃，抽氣壓力在25 Pa左右保持5小時，濃縮後形成沉澱，即為高純三氧化鉬。
化學淨化法
通過多次重結晶，獲得高純鉬酸銨，然後煅燒得到高純三氧化鉬。
獲得高純三氧化鉬後，採用傳統氫還原法和等離子氫還原法均可獲得高純度鉬粉。這幾種製備技術均有套用的報導，但具體技術思路和細節均未公開。
獲得高純鹵化物的工藝原理是：將工業三氧化鉬或鉬金屬廢料（如垂熔條的夾頭、鉬材邊角料、廢鉬絲等）鹵化得到鹵化物（一般為五氯化鉬），然後在550 ℃左右的高溫條件下對鹵化鉬進行分餾處理，使裡面的雜質揮發，得到深度提純的鹵化鉬（據稱純度可達到5 N），最後通過氫氯焰或氫等離子焰還原，得到高純鉬粉。
通過多次重結晶，獲得高純鉬酸銨，然後煅燒得到高純三氧化鉬。
獲得高純三氧化鉬後，採用傳統氫還原法和等離子氫還原法均可獲得高純度鉬粉。這幾種製備技術均有套用的報導，但具體技術思路和細節均未公開。
獲得高純鹵化物的工藝原理是：將工業三氧化鉬或鉬金屬廢料（如垂熔條的夾頭、鉬材邊角料、廢鉬絲等）鹵化得到鹵化物（一般為五氯化鉬），然後在550 ℃左右的高溫條件下對鹵化鉬進行分餾處理，使裡面的雜質揮發，得到深度提純的鹵化鉬（據稱純度可達到5 N），最後通過氫氯焰或氫等離子焰還原，得到高純鉬粉。
