高溫交聯光刻膠的固化技術是指顯影后烘焙固化第一層光刻膠圖形,是另一種保護光刻膠圖形的方法。
基本介紹
- 中文名:高溫交聯光刻膠的固化技術
- 類型:保護光刻膠圖形的方法
高溫交聯光刻膠的固化技術是指顯影后烘焙固化第一層光刻膠圖形,是另一種保護光刻膠圖形的方法。
高溫交聯光刻膠的固化技術是指顯影后烘焙固化第一層光刻膠圖形,是另一種保護光刻膠圖形的方法。原理在第一層光刻膠中加入溫度活化交聯劑,其活化溫度必須高於光刻膠軟烘(PAB)和曝光後烘烤的溫度。第一次顯影后,光刻膠圖形在更高溫...
《膠黏劑生產原理與技術》是2009年8月化學工業出版社出版的圖書,作者是李和平。內容簡介 《膠黏劑生產原理與技術》以膠黏劑的生產或合成原理、生產工藝技術為主線,全面系統介紹了膠黏劑的基本理論,各類膠黏劑的生產或合成原理、工藝技術及工藝流程、生產設備、膠黏劑套用性能及粘接質量檢驗等,兼顧膠黏劑的組成、...
高溫交聯光刻膠的固化技術是指顯影后烘焙固化第一層光刻膠圖形,是另一種保護光刻膠圖形的方法。原理 在第一層光刻膠中加入溫度活化交聯劑,其活化溫度必須高於光刻膠軟烘(PAB)和曝光後烘烤的溫度。第一次顯影后,光刻膠圖形在更高溫度進行烘焙並發生交聯反應。技術特點 交聯後的光刻膠圖形不受第二次光刻...
光敏膠粘劑一般由光敏樹脂、增感劑、交聯劑、光敏劑(光引發劑)、穩定劑和溶劑等組成。其固化是在一定強度和波長的紫外光作用下實現的。這種膠粘劑一般用於透明材料(至少被膠接材料的一面應是如此)膠接和作為光致抗蝕劑(光刻膠)用於微型電路和積體電路元件的製造。由於光敏膠粘劑是作用於膠粘劑中的感光性物質...
光致抗蝕劑 用於光加工工藝的光敏高分子,通稱光致抗蝕劑(又稱光刻膠),大量用於印刷製版和電子工業的光刻技術中。它的工作原理是受光部分發生交聯,生成難溶性的硬化膜,經加工成負像(負性膠);或者是原來的不溶性膠受光照後變為可溶性的,經加工得正像(正性膠)。 通常用的光致抗蝕劑有:①聚...
聚雙馬來醯亞胺是由順丁烯二酸酐和芳香族二胺縮聚而成的。它與聚醯亞胺相比,性能不差上下,但合成工藝簡單,後加工容易,成本低,可以方便地製成各種複合材料製品。但固化物較脆。(2) 降冰片烯基封端聚醯亞胺樹脂 其中最重要的是由NASA Lewis研究中心發展的一類PMR(for insitu polymerization of monomer reactants...
旋塗玻璃法簡稱SOG(Spin On Glass),是目前普遍採用的一種局部平坦化技術。它的基本原理類似光刻膠旋塗,即把一種溶於溶劑內的介電材料以旋塗的方式塗布在晶片上。因為經塗布的介電材質可以隨著溶劑而在晶片表面流動,因此很容易填入如圖3箭頭所示的凹槽內。經過適當的熱處理,去除這些用來溶解介電材料的溶劑以後,...
進一步隨著科學技術和經濟的發展,電子、汽車、交通運輸、航空航天工業的套用需求,耐高溫、高強度、高模量、高衝擊性、耐極端條件等高性能的高分子材料得到極大的發展。目前合成高分子材料正在向功能化、智慧型化、精細化方向發展,使其由結構材料向具有光、電、聲、磁、生物醫學、仿生、催化、物質分離以及能量轉化等效應...
電泳塗裝、陰極電沉積塗裝、光固化等新技術(見塗料施工),可節省勞力和材料,並從而發展了相應的塗料品種。現代化學工業20世紀60~70年代以來,化學工業各企業間競爭激烈,一方面由於對反應過程的深入了解,可以使一些傳統的基本化工產品的生產裝置,日趨大型化,以降低成本。與此同時,由於新技術革命的興起,對化學工業...