非平衡磁控濺射鍍膜系統

非平衡磁控濺射鍍膜系統是一種用於材料科學、機械工程領域的工藝試驗儀器，於2014年04月22日啟用。

基本介紹

• 中文名：非平衡磁控濺射鍍膜系統
• 產地：英國
• 學科領域：材料科學、機械工程
• 啟用日期：2014年04月22日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備

技術指標

該設備的新型閉合場非平衡磁控濺射系統的離子流是傳統磁控濺射離子流的100倍，是該公司早期的非平衡磁控濺射離子流的2.5倍。可提供TiN、TiCN、TiAlN、CrN、AlCrN、CrTiAlN等硬質耐磨鍍層；MoSTTM、 G-iCTM、D-iCTM等專利自潤滑減摩鍍層。

主要功能

該系統易於最佳化鍍膜條件，得到有良好結合力的緻密膜層：可以工業規模生產先進的複合、納米、多層及非晶鍍層；並可實現低溫沉積，在塑膠等器件上鍍膜。與陰極弧相比，所形成的鍍層不存在金屬液滴，表面粗糙度低。