電阻加熱蒸鍍，採用片狀或絲狀的鎢、鉬、鉭等高熔點金屬做成一定形狀的蒸發源（電阻元件），利用大電流通過蒸發源所產生的焦耳熱，對蒸發材料進行直接加熱蒸發，或將膜料放入氧化鋁、氧化鈹等坩堝中進行間接加熱蒸發並在基體表面成膜的真空蒸鍍工藝。
基本介紹
- 中文名：電阻加熱蒸鍍
- 屬性：真空蒸鍍工藝
電阻加熱蒸鍍，採用片狀或絲狀的鎢、鉬、鉭等高熔點金屬做成一定形狀的蒸發源（電阻元件），利用大電流通過蒸發源所產生的焦耳熱，對蒸發材料進行直接加熱蒸發，或將膜料放入氧化鋁、氧化鈹等坩堝中進行間接加熱蒸發並在基體表面成膜的真空蒸鍍工藝。
電阻加熱蒸鍍，採用片狀或絲狀的鎢、鉬、鉭等高熔點金屬做成一定形狀的蒸發源（電阻元件），利用大電流通過蒸發源所產生的焦耳熱，對蒸發材料進行直接加熱蒸發，或將膜料放入氧化鋁、氧化鈹等坩堝中進行間接加熱蒸發並在基體表面成膜的真...
熱蒸鍍（Thermal Evaporation）是用於沉積薄膜的一種技術。簡介 熱蒸鍍（ThermalEvaporation）是用於沉積薄膜的一種技術。源材料在真空腔中被電子束或者電阻絲加熱蒸發成氣態，氣態的源材料會直接粘附在置於原材料上側的襯底上，而不會與...
蒸發源是用來加熱膜料使之氣化蒸發的部件。真空蒸發使用的蒸發源主要有電阻加熱、電子束加熱、高頻感應加熱、電弧加熱和雷射加熱等五大類。加熱方式 真空蒸鍍使用的加熱方式主要有：電阻加熱、電子束加熱。射頻感應加熱、電弧加熱和雷射加熱...
真空蒸鍍依賴於對源材料的加熱，使源材料在特定的蒸發溫度蒸發並且凝結在基片上，基片與源材料一起放置在真空中。源材料可以放置在由電阻絲加熱的坩堝中，或者可以使電阻絲自身構成容納源材料的容器。電阻絲通常是由耐熱性導電材料製成，...
工件上方裝電阻加熱烘烤源，並以熱電偶測溫。套用 反應蒸鍍法常用於製備高熔點的化合物薄膜，。例如在蒸發Ti時，加入C₂H₂氣體，可獲得硬質膜TiC；在蒸發Al時，加入NH₃氣，可製備AIN薄膜；又如蒸發SnO-In₂O₃混合物製備...
①真空鍍金屬。是一種將蒸發物質加熱的方法。其中包括常用的電阻加熱法，電子束加熱法，高頻感應加熱法以及雷射光束加熱法等。②分子束蒸發法。在極高真空中分析其鍍膜的增長，並以單位原子層能級控制其鍍金屬膜的形成的方法。③離子鍍。
電子束蒸鍍是利用加速電子轟擊鍍膜材料，電子的動能轉換成熱能使鍍膜材料加熱蒸發，並成膜。電子槍有直射式、環型和E型之分。電子束加熱蒸鍍的特點是能獲得極高的能量密度，最高可達109w/cm²，加熱溫度可達3000～6000℃，可以蒸發難...
加熱金屬的方法：有利用電阻產生的熱能，也有利用電子束的。在對塑膠製品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合於蒸鍍。置待鍍金屬和被鍍塑膠製品...
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。並且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能雷射轟擊靶材，並使表面組分以原子團或...
蒸發的方法包括電阻加熱，高頻感應加熱，電子束、雷射束、離子束高能轟擊鍍料等。真空蒸鍍是PVD法中使用最早的技術。蒸發源 將鍍料加熱到蒸發溫度並使之氣化，這種加熱裝置稱為蒸發源。最常用的蒸發源是電阻蒸發源和電子束蒸發源，特殊...
加熱金屬的方法：有利用電阻產生的熱能，也有利用電子束的。在對塑膠製品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合於蒸鍍。置待鍍金屬和被鍍塑膠製品...
在對塑膠製品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合於蒸鍍。置待鍍金屬和被鍍塑膠製品於真空室內，採用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發或升華，...
按照材料類型可分為：電化鋁燙印，色箔燙印，色片燙印，金屬箔燙印和其他燙印箔燙印。下面重點介紹一下電化鋁材料的燙印，電化鋁箔是一種在薄膜片基上真空蒸鍍一層金屬箔而製成的燙印材料。① 第一層是基膜層，也稱為片基層，它起...