電弧等離子射流反應沉積是指利用電弧電漿射流的高能環境進行化學反應製備塗層或新材料的工藝方法。主要設備是電弧等離子噴槍，其陰極為鎢棒，陽極為與陰極同軸的水冷銅噴嘴。噴槍通常裝在真空室內。
基本介紹
- 中文名：電弧等離子射流反應沉積
- 外文名：arc plasma jet reaction deposition
- 學科：材料工程
- 領域：工程技術
簡介,套用設備,反應過程,製備方法,
簡介
電弧等離子射流反應沉積是指利用電弧電漿射流的高能環境進行化學反應製備塗層或新材料的工藝方法。
套用設備
主要設備是電弧等離子噴槍，其陰極為鎢棒，陽極為與陰極同軸的水冷銅噴嘴。噴槍通常裝在真空室內。
反應過程
工作時，氮或氮等氣體送入放電室，在兩電極之間施加電盆，引燃放電，就能產生高溫高速電漿射流。
製備方法
當製備金剛石膜時，採用射流反應工作模式，是將碳源物質通入噴槍或射流中，通過熱分解反應，形成金剛石膜。由於在電弧電漿中離化率高、活性粒子濃度大，使金剛石膜生長速率高達1mm/h。這種方法還可用於多種材料製備。另一種方法是蒸發反應。在噴槍出口下部放一坩堝，內裝金屬料。在坩堝和噴槍間加上正電壓，將電漿中的電子引向增禍，熔化蒸發物料，並使其蒸汽電離。在等離子噴槍中通入反應氣體，就能夠以離子形態與物料蒸汽離子反應，生成各種化合物。這種工藝既能成膜，又能制粉，還能製備超細纖維和晶須。
