電子電鍍超純水設備主要套用在電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗;電子管生產;電子管陰極塗敷碳酸鹽配液;顯像管和陰極射線管生產配料用純水黑白顯像管螢光屏生產;玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水;液晶顯示器的生產;屏面需用純水清洗和用純水配液電晶體生產中主要用於清洗矽片,另有少量用於藥液配製積體電路生產中高純水清洗矽片等.
工藝流程,三種工藝比較,設備特點,優點,
工藝流程
預處理系統-反滲透系統-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝)
處理系統-反滲透系統-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統工藝)
三種工藝比較
目前製備電子工業超純水的工藝基本上是以上三種，其餘的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列於下面：
第一種採用傳統的離子交換樹脂其優點在於初次投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經常進行離子再生，耗費大量酸鹼，而且對環境有一定的破壞。
第二種採用反滲透+離子交換設備，其特點為初次投資比採用離子交換樹脂方式要稍高，但離子再生周期相對要長，耗費的酸鹼比單純採用離子樹脂的方式要少很多。是目前比較經濟與流行的一種工藝。
第三種採用反滲透作預處理再配上電去離子裝置，這是目前製取超純水最先進，最環保的的工藝，不需要用酸鹼進行再生便可連續製取超純水，對環境沒什麼破壞性。其缺點在於初次投資相對以上兩種方式過於昂貴。
設備特點
為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，儘可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.電子電鍍超純水設備在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等。系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、線上水質檢測控制儀表、電氣採用PLC可程式控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上採用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和可靠性。
優點
1. 無需酸鹼再生： 在混床中樹脂需要用化學藥品酸鹼再生， 而EDI則消除了這些有害物質的處理和繁重的工作。保護了環境。
2. 連續、簡單的操作： 在混床中由於每次再生和水質量的變化，使操作過程變得複雜，而EDI的產水過程是穩定的連續的， 產水水質是恆定的，沒有複雜的操作程式，操作大大簡便化。
3. 降低了安裝的要求：EDI系統與相當處理水量的混床相比，有較不的體積，它採用積木式結構，可依據場地的高度和窨靈活地構造。 模組化的設計， 使EDI在生產工作時能方便維護。
