電子薄膜材料

《電子薄膜材料》是1996年10月科學出版社出版的圖書，作者是曲喜新。。

基本介紹

• 書名：電子薄膜材料 
• 作者：曲喜新
• 出版社：科學出版社
• 出版時間：1996年10月
• ISBN：703005198X

內容簡介

電子薄膜是微電子技術和光電子技術的基礎．本書全面系統地論述薄膜材料的電性能及套用，論述對材料所實行的分子設計和原子設計，以及如何從原子、分子水平來控制材料的成分、結構和性能等．主要內容包括：高T↘↘c↙↙超導薄膜、導電薄膜、電阻薄膜、半導體薄膜、介質薄膜、磁性薄膜、壓電薄膜、熱電薄膜等．每一專題內容中均含有相應的敏感薄膜的內容．

本書可作高等學校微電子專業、光電子專業師生的教學參考書，也可供從事微電子技術和光電子技術的科研工作、新產品開發和生產的科研人員、工程技術人員閱讀．

圖書目錄

目錄

第一章 高T_c超導薄膜

1.1 高T_c氧化物超導薄膜的製造技術

1.1.1 製造工藝原理

1.1.2 YBaCuO超導薄膜的製造

1.1.3 BiSrCaCuO超導薄膜的製造

1.1.4 TlBaCaCuO超導薄膜的製造

1.2 高T_c超導薄膜的成分和結構

1.2.1 高T_c超導薄膜的成分

1.2.2 高T_c超導薄膜的結構

1.3 高T_c超導薄膜的性能

1.3.1 臨界溫度

1.3.2 臨界電流密度

1.3.3 臨界磁場

1.3.4 相干長度

1.3.5 穿透深度

1.3.6 穩定性

1.4 高T_c超導薄膜的套用

1.4.1 超導無源元件

1.4.2 超導有源器件

參考文獻

第二章 導電薄膜

2.1 導電薄膜的製造技術

2.1.1 金屬薄膜的製造

2.1.2 複合導電薄膜的製造

2.1.3 高熔點金屬薄膜的製造

2.1.4 多晶矽薄膜

2.1.5 金屬矽化物薄膜的製造

2.1.6 透明導電薄膜的製造

2.2 導電薄膜的組成和性質

2.2.1 鋁及鋁合金薄膜的組成和性質

2.2.2 複合導電薄膜的組成和性質

2.2.3 高熔點金屬薄膜的組成和性質

2.2.4 多晶矽薄膜的組成和性質

2.2.5 金屬矽化物薄膜的組成與性質

2.2.6 透明導電薄膜的組成和性質

2.3 導電薄膜的套用

2.3.1 導電薄膜在LSI中的套用

2.3.2 導電薄膜在混合積體電路中的套用

2.3.3 透明導電薄膜的套用

參考文獻

第三章 電阻薄膜

3.1 碳膜

3.1.1 熱分解碳膜的製備

3.1.2 熱分解碳膜的結構

3.1.3 熱分解碳膜的性能

3.1.4 硼碳膜和矽碳膜

3.2 金屬氧化膜

3.2.1 金屬氧化膜的製備

3.2.2 金屬氧化膜的結構和性能

3.3 金屬和合金膜

3.3.1 金屬膜的結構和性能特點

3.3.2 鉻、鉭金屬膜

3.3.3 鎳鉻合金膜

3.4 金屬陶瓷膜

3.4.1 金屬陶瓷膜的製備

3.4.2 金屬陶瓷膜的結構和性能特點

3.4.3 同時澱積導電相和介質相的金屬陶瓷膜

3.4.4 合金膜部分氧化得到的金屬陶瓷膜

參考文獻

第四章 半導電薄膜

4.1 矽薄膜

4.1.1 單晶矽薄膜

4.1.2 多晶矽薄膜

4.1.3 非晶矽薄膜

4.2 鍺薄膜

4.2.1 概述

4.2.2 單晶鍺薄膜

4.2.3 多晶鍺薄膜

4.3 Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體薄膜

4.3.1 概述

4.3.2 砷化鎵薄膜

4.3.3 磷化鎵薄膜

4.3.4 多元固溶體薄膜

4.4 Ⅱ-Ⅵ族化合物半導體薄膜

4.4.1 概述

4.4.2 含汞化合物薄膜

4.4.3 無汞化合物薄膜

4.5 Ⅳ-Ⅵ族化合物半導體薄膜

4.5.1 鉛的硫屬化合物薄膜

4.5.2 碲錫鉛薄膜

參考文獻

第五章 介質薄膜

5.1 介質薄膜的製造技術、組成與性質

5.1.1 一氧化矽薄膜

5.1.2 二氧化矽薄膜

5.1.3 鉭基介質薄膜

5.1.4 氮化矽薄膜

5.1.5 Al₂O₃介質薄膜

5.1.6 多元金屬氧化物薄膜

5.1.7 其他介質薄膜

5.2 介質薄膜的套用

5.2.1 用作電容器介質

5.2.2 用作隔離和掩模層

5.2.3 表面鈍化膜

5.2.4 多層布線絕緣膜

參考文獻

第六章 磁性薄膜

6.1 稀土-過渡金屬（RE-TM）磁光膜

6.1.1 磁光克爾效應

6.1.2 製備工藝對薄膜性能的影響

6.2 氧化物及錳鉍系磁光薄膜

6.2.1 Bi和Al代石榴石磁光膜的製備和性能

6.2.2 Bi，Ga代DyIG薄膜的製備和性能

6.2.3 石榴石薄膜晶體結構及離子取代規律

6.2.4 石榴石型薄膜磁光碟

6.3 多層調製磁光薄膜

6.4 磁阻薄膜

6.4.1 結構和尺寸對磁阻薄膜性能的影響

6.4.2 影響磁阻薄膜性能的工藝因素

6.4.3 磁阻薄膜的磁化特性

6.5 巨磁阻多層膜

6.5.1 多層膜巨磁阻特性

6.5.2 影響多層膜磁阻性能的因素

6.5.3 磁阻薄膜感測器

6.6 磁記錄薄膜

6.6.1 化學鍍法

6.6.2 反應濺射和真空蒸發法

參考文獻

第七章 壓電薄膜

7.1 壓電薄膜的製造技術

7.1.1 ZnO壓電薄膜的製造

7.1.2 AlN壓電薄膜的製造

7.1.3 Ta₂O₅壓電薄膜的製造

7.1.4 鈦酸鹽系等壓電薄膜的製造

7.1.5 ZnO/AlN複合壓電薄膜的製造

7.2 壓電薄膜的成分和結構

7.2.1 壓電薄膜的分析方法

7.2.2 壓電薄膜的成分

7.2.3 壓電薄膜的結構

7.2.4 製造工藝對薄膜結構的影響

7.3 壓電薄膜的性能

7.3.1 物化性能

7.3.2 介電性能

7.3.3 壓電性能

7.4 壓電薄膜的套用

7.4.1 體聲波器件

7.4.2 表聲波器件

7.4.3 聲光器件

參考文獻

第八章 熱電薄膜

8.1 熱釋電薄膜的製備技術

8.1.1 PbTiO₃系薄膜的濺射法製備

8.1.2 PbTiO₃系薄膜的CVD法製備

8.1.3 PbTiO₃系薄膜的溶膠-凝膠法製備

8.2 熱釋電薄膜的組成和性質

8.3 熱釋電薄膜的套用

參考文獻