電子照射納米製備系統

電子照射納米製備系統是一種用於機械工程領域的科學儀器，於2015年3月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：電子照射納米製備系統
• 產地：日本
• 學科領域：機械工程
• 啟用日期：2015年3月1日

技術指標

離子照射法製備薄膜（0-150 ev），電子照射法製備薄膜（0-500 eV）。

主要功能

可實現離子和電子照射法製備薄膜，化學氣相沉積法製備薄膜、離子刻蝕、電子表面拋光和元素摻雜等各種不同的薄膜加工工藝。