電子槍加熱利用電子束轟擊物料產生的熱能對物料進行電加熱的方法。電子槍加熱通常在真空中進行,陰極接負的高電位,陽極接地,聚束極通常與陰極同電位或更低,陰、陽極間形成加速電場。
基本介紹
- 中文名:電子槍加熱
- 外文名:electron beam heating
- 定義:電子束轟擊物料產生的熱能加熱
- 特點:在真空中進行
- 設備:電子槍、工作室
- 套用:金屬
電子槍加熱利用電子束轟擊物料產生的熱能對物料進行電加熱的方法。電子槍加熱通常在真空中進行,陰極接負的高電位,陽極接地,聚束極通常與陰極同電位或更低,陰、陽極間形成加速電場。
電子槍加熱利用電子束轟擊物料產生的熱能對物料進行電加熱的方法。電子槍加熱通常在真空中進行,陰極接負的高電位,陽極接地,聚束極通常與陰極同電位或更低,陰、陽極間形成加速電場。產品介紹電子槍加熱利用電子束轟擊物料產生的熱能對...
電子槍是產生、加速及會聚高能量密度電子束流的裝置,它發射出具有一定能量、一定束流以及速度和角度的電子束,又稱電子注。電子槍的套用有非彈性電子散射和螢光屏發光等等。原理 在電子槍里,燈絲,一般是鎢絲,通電加熱後,表面產生...
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電子束是由電子槍內熱陰極(燈絲)發出的電子,通過高壓環形陽極加速並聚集成束,使電子束流打擊金屬表面,達到加熱的效果。表面加熱深度主要取決於加速電壓。優點 電子束熱處理的主要優點是加熱速度快,變形小;淬火後可獲得細晶組織。電子...
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電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環行)、由電子發射源(通常是熱的鎢陰極作電子源)、電子加速電源、坩堝、磁場線圈、冷卻水套等組成。膜料放入水冷增禍中,電子束自源發出,用磁場線圈使電子束聚焦和偏轉,對膜...
電子束爐利用電子槍(實務上熱電子槍較常見,如果場髮式的還要考慮電磁場對電子束飛行路線的干擾)來產生電子束,而且通常電子槍會以施加高電壓的方式來確保電子束中的電子有足夠的飛行速度。如果要做真空加熱,未必非電子束爐莫屬,電弧...
電子束蒸鍍是利用加速電子轟擊鍍膜材料,電子的動能轉換成熱能使鍍膜材料加熱蒸發,並成膜。電子槍有直射式、環型和E型之分。電子束加熱蒸鍍的特點是能獲得極高的能量密度,最高可達109w/cm²,加熱溫度可達3000~6000℃,可以蒸發難...
電子束蒸鍍(Electron Beam Evaporation)是物理氣相沉積的一種,是在真空條件下利用電子束進行直接加熱蒸發材料,使蒸發材料氣化並向基板輸運,在基底上凝結形成薄膜的方法。電子槍是產生電子束的部件,由直線狀螺旋鎢陰極、柵極和陽極組成...
電子束區域熔煉 電子束區域熔煉(electron beam zone melting)是2019年公布的冶金學名詞。定義 以電子槍發射出的高能電子束作為局部加熱熱源的區域熔煉。出處 《冶金學名詞》第二版。
軸向槍電子束熔煉爐(Transverse gun electron beam melting furnace)是一種電子束熔煉爐。軸向槍結構複雜、製造困難,屬遠聚焦電子槍,其陰極壽命可長達幾百小時。由於槍室可單獨抽真空,從而熔煉室壓力可高於槍室壓力1-2個數量級,...
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電子束蒸發鍍膜設備是一種用於數學領域的分析儀器,於2017年3月1日啟用。技術指標 真空室極限真空度≤8E-5Pa,從大氣抽至1E-3Pa時間≤40min,漏率≤2E-10AtmCC/Sec。電子槍:最大加速功率10KW,最大電流1A;偏轉角270度。電子束...
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真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發,電子槍加熱蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD雷射濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。簡介 需要鍍膜的被稱為基片...
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以錸條作陽極、電子槍作陰極,兩極作緩慢地相對移動。被電子槍加熱部分剛剛處於熔化狀態,造成狹窄的熔區,在表面張力作用下熔融錸不下墜。隨粉電子槍的上移,分布係數小於1的雜質元素逐漸往上富集,經多次重複行程,分布係數小於1的雜質...
具有半自動或全自動功能的機械式為第二代,這一類武器人們都很熟悉,如機槍、衝鋒鎗等。該系統則是電子式的第三代,它最顯著的特點就是武器的發射系統沒有了傳統的機械操作部件。邁克·奧德威爾發明的金屬風暴武器公諸於世後,不僅震撼...
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