電子束直寫電子光學系統

電子束直寫電子光學系統是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的計量儀器，於2013年6月2日啟用。

基本介紹

• 中文名：電子束直寫電子光學系統
• 產地：英國
• 學科領域：工程與技術科學基礎學科
• 啟用日期：2013年6月2日
• 所屬類別：計量儀器 > 光學計量儀器

技術指標

技術指標：二次電子像解析度：1.3nm (20kV)；1.5nm (15kV)；2.8nm (1kV) 放大倍率：12×~1000,000 聚焦工作距離：1mm~50mm 最大樣品尺寸：200mm（直徑）。

主要功能

功能：使用二次電子和背散射電子可以對樣品進行高解析度、高襯度和高信噪比的檢測，即使要求苛刻的非導電樣品也能獲得清晰的圖像；對任意樣品進行高襯度和低電壓成像，並使樣品損傷降至最低。