雙面對準曝光機

雙面對準曝光機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2012年4月12日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙面對準曝光機
• 產地：美國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2012年4月12日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電路板製造工藝實驗設備

技術指標

主要規格：1、光源：350WNUV；2、雙CCD、雙面對準系統；CCD圖像倍率：180x~1200x；2個17寸LCD監視器；3、支持2、4、6英寸方基片；2、3、4、5、6英寸圓基片；技術指標：1、365nm光強密度：18-20mW/cm2；400nm光強密度：30-35mW/cm2；2、均勻性：50mm口徑＜±1%；100mm口徑＜±2%；150mm口徑＜±3%；3、解析度：0.6um（接觸式）；1um（接近式）；4、正面對準精度：±0.5um5、背面對準精度。

主要功能

功能：用於掩膜拷貝曝光；套用範圍：微光學、微點路、MEMS、微流道等。