精密對位曝光系統

精密對位曝光系統是一種用於數學領域的物理性能測試儀器，於2004年03月01日啟用。

基本介紹

• 中文名：精密對位曝光系統
• 產地：奧地利
• 學科領域：數學
• 啟用日期：2004年03月01日
• 所屬類別：物理性能測試儀器

技術指標

EVG620掩模對準曝光機襯底尺寸：2 - 6襯底、碎片（單片）掩模版尺寸：最大7對準精度：光刻對準：頂部對準0.5um 底部對準1um鍵合對準：玻璃/矽0.5um 矽/矽1.0um曝光精度：1um曝光模式：軟接觸、硬接觸、真空接觸、接近式曝光曝光參數：350nm-450nm波長汞燈功率：350W-450W光強均勻性：4

主要功能

可以進行單次曝光，單面套刻，雙面套刻。