雙面曝光機

雙面曝光機是一種用於物理學領域的儀器，於2005年6月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙面曝光機
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2005年6月1日

技術指標

上下掩膜對準行程範圍：X向 ±4mm，Y向 ±4mm，θ向 ±7.5°；掩膜對基片對準行程範圍：X向 ±4mm，Y向 ±4mm，θ向 ±5°； 掩膜對基片對準精度 ±4μm；機械手Z向行程：≤5mm；物鏡分離距離：26~70mm；曝光面積：Ф110mm；曝光解析度：5μm；曝光不均勻性：±5%（進口燈≤±3%）。

主要功能

SB-401B雙面對準曝光機是半導體器件生產的專用設備。它廣泛地套用於半導體光電器件、功率器件、感測器、混合積體電路、太陽能電池、微電子機械系統（MEMS）以及其它需要雙面曝光的各種器件的雙面對準和曝光。