《隱身塗層技術》是2004年9月化學工業出版社出版的圖書，作者是胡傳炘。
基本介紹
- 書名：隱身塗層技術
- 作者：胡傳炘
- ISBN：9787502560089
- 頁數：371
- 定價：60.00
- 出版社：化學工業出版社
- 出版時間：2004-9
- 裝幀：平裝
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
本書在綜合論述隱身技術的基礎上，重點介紹了光學(含近紅外)隱身塗層、雷射隱身塗層、雷達隱身塗層、紅外隱身塗層，特別詳細敘述了各種隱身塗層新技術，如納米複合隱身塗層、新型雷達吸收劑製備技術、吸波塗層計算機輔助設計、新型偽裝網等。本書可供相關專業的高等學校師生、研究人員和工程技術人員參考，也可供對隱身技術有興趣的讀者閱讀。
圖書目錄
第1章 總論
1.1 隱身技術的基本概念
1.1.1 隱身技術
1.1.2 反隱身技術
1.1.3 塗層隱身技術
1.1.4 隱身技術術語
1.2 隱身技術的發展
1.2.1 隱身技術的起源
1.2.2 光學隱身技術的發展
1.2.3 雷達波隱身技術的發展
1.2.4 紅外線隱身技術的發展
1.3 隱身技術現狀及發展趨勢
1.3.1 可見光隱身技術現狀及發展趨勢
1.3.2 紅外線隱身技術現狀及發展趨勢
1.3.3 雷達波隱身技術現狀及發展趨勢
1.4 隱身技術與光電對抗
1.4.1 隱身進攻武器的威脅
1.4.2 對抗隱身進攻武器的措施
1.4.3 美國國家飛彈防禦與戰區飛彈防禦系統簡介
參考文獻
第2章 光學隱身塗層
2.1 幾何光學的幾個基本概念及定律
2.1.1 幾何光學的基本定律
2.1.2 光的傳播
2.1.3 光的反射定律
2.1.4 光的折射定律
2.1.5 光的全反射
2.1.6 光度學概念
2.2 物理光學幾個基本概念
2.2.1 光的吸收
2.2.2 吸收光譜
2.2.3 光的散射
……
1.1 隱身技術的基本概念
1.1.1 隱身技術
1.1.2 反隱身技術
1.1.3 塗層隱身技術
1.1.4 隱身技術術語
1.2 隱身技術的發展
1.2.1 隱身技術的起源
1.2.2 光學隱身技術的發展
1.2.3 雷達波隱身技術的發展
1.2.4 紅外線隱身技術的發展
1.3 隱身技術現狀及發展趨勢
1.3.1 可見光隱身技術現狀及發展趨勢
1.3.2 紅外線隱身技術現狀及發展趨勢
1.3.3 雷達波隱身技術現狀及發展趨勢
1.4 隱身技術與光電對抗
1.4.1 隱身進攻武器的威脅
1.4.2 對抗隱身進攻武器的措施
1.4.3 美國國家飛彈防禦與戰區飛彈防禦系統簡介
參考文獻
第2章 光學隱身塗層
2.1 幾何光學的幾個基本概念及定律
2.1.1 幾何光學的基本定律
2.1.2 光的傳播
2.1.3 光的反射定律
2.1.4 光的折射定律
2.1.5 光的全反射
2.1.6 光度學概念
2.2 物理光學幾個基本概念
2.2.1 光的吸收
2.2.2 吸收光譜
2.2.3 光的散射
……
