發展歷史
表1列出了近代玻璃鍍膜技術史上的重大事件。玻璃鍍膜技術發展
日新月異,套用範圍也從原來的汽車頂棚玻璃發展到包括建築用
平板玻璃和彎曲玻璃、住宅平板玻璃、汽車擋風曲面玻璃和CRT(陰極射線管)在內的眾多品種。1983年,美國出現的大規模銀基低輻射鍍膜玻璃產品更擴展了鍍膜玻璃在你民宅領域中的套用。同年,彎曲基面上的鍍膜技術也被引入。銀基的風擋玻璃進一步發展成為
電熱的、
光學透明的膜面,為大量居住在寒冷地區的需要清除他們汽車
擋風玻璃上的冰和積雪的人們所
青睞。隨後,大口徑的鍍膜機使得在大彎曲度的建築玻璃上鍍膜成為可能。
表1:近代玻璃鍍膜技術史上的重大事件
20世紀60年代
| PPG用間歇工藝發明了具有良好耐久性和中等性能的光反射熱解膜 PPG發明高性能的Solarban濕法工藝 LOF-Airco Temescal電子束蒸發鍍真空工藝
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1971
| 發明平面陰極靶,專利屬Airco Temescal公司
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1975
| 第一片濺射玻璃產品,汽車頂棚
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1977
| 第一台建築玻璃鍍膜機開始使用
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1983
| 第一台銀基、Low-E鍍膜機
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1983
| 擋風玻璃鍍膜機問世
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1988
| 大面積彎曲玻璃鍍膜機問世
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1989
| 旋轉陰極(C-Mag陰極)問世
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1990
| 矽基光學鍍膜的大規模生產
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1992
| BOC無缺陷、防反射向上濺射的光學鍍膜問世
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1994
| BOC模組式鍍膜機問世
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1996
| 第一台專門用於CRT鍍膜的系統安裝使用
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1998
| BOC開發出AC/DC C-Mag陰極和電源系統
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1999
| BOC安裝第一台向上濺射的汽車擋風玻璃鍍膜生產線
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1989年,圓柱旋轉陰極作為鍍膜工業的有一個標誌性的進步問世了。不同於平面靶,它的靶材是圓筒狀的,不斷旋轉的表面具有很多優點。其中,反應濺射期間電介質(氧化物和氮化物)的沉積速率的提高是一個關鍵優勢。平面靶的反應濺射會在靶材非濺射區形成很厚的電介質層聚集,從而容易產生電介質的擊穿或電弧。由於圓柱磁控靶表面在不斷地濺射,可以顯著地改善這個問題。
使用C-Mag旋轉陰極可以使以往難以濺射的SiO2或Si3N4得以套用,這就是其中的一個關鍵優勢,因為SiO2是許多光學鍍膜如減反射鍍層所需的低反射係數材料;Si3N4可形成極高化學和機械耐久性的、通常被用作保護膜的透明電介質膜。
1990年,第一片C-Mag鍍的大面積濺射矽基光學膜走下生產線。到1992年它已經被擴展到要求極低缺陷的減反射光學膜的向上濺射配置。由於其無法超越的高產量,該技術至今一直被繼續探索。
社會套用
目前已經有超過87條的
BOC生產線在世界上23個國家投入使用。