陰極濺射沉積

用荷能粒子轟擊某一靶材(陰極)使靶材表層原子以一定的能量逸出，然後在基材表面沉積成膜的過程稱為濺射沉積鍍膜。和真空蒸鍍一樣，濺射沉積也需要在真空中進行。靶是一平板，由被沉積材料組成。一般將它和電源負極連線(陰極)。真空室容器中充人氣體作為媒介，使輝光放電得以起動和維持。

最常用的氣體是氬氣。此外,系統中包括基材與基材固定裝置，陽極和真空系統。濺射所需的離子常用低壓氣體放電(輝光放電)來產生，在1~3kV直流電壓作用下,0.133Pa的氬氣會形成輝光放電。