金屬玻璃掩模mclal on glass mask以不透光金屬薄膜選擇地覆蓋在坂璃基片上構成的光學掩模版:
基本介紹
- 中文名：金屬玻璃掩模
- 外文名：mclal on glass mask
金屬玻璃掩模mclal on glass mask以不透光金屬薄膜選擇地覆蓋在坂璃基片上構成的光學掩模版:
金屬玻璃掩模mclal on glass mask以不透光金屬薄膜選擇地覆蓋在坂璃基片上構成的光學掩模版:...
掩模版本身也是一個微細加工過程。它涉及曝光、顯影、刻蝕等工藝過程。掩模的曝光常用掃描雷射束完成。經過曝光顯影后的鍍鉻玻璃板一般經過濕法酸腐蝕去除暴露的鉻層，從而形成掩膜圖形。這時傳統掩模版的製造過程。結構 為了保證在不同型號...
掩膜版有兩種：一種是在塗有普通乳膠的照相干版上，依據掩模原圖，用照相方法製成的；另一種是在鍍有一薄層金屬（通常為鉻）的玻璃版上，用光刻法在金屬層上刻蝕出所需圖形而製成的。為了使每塊矽片能同時製作幾十至幾千個管芯或...
受衝擊的靶材原子會沉積在玻璃基板上從而形成薄膜。工藝過程 1） 繪製生成設備可以識別的掩膜版版圖檔案（GDS格式）2） 使用無掩模光刻機讀取版圖檔案，對帶膠的空白掩膜版進行非接觸式曝光（曝光波長405nm），照射掩膜版上所需圖形區域，...
rontart mask在半導體製造中的一步接觸孔製作工序。在該工序中整個管芯表面放置一玻璃絕緣層在稍後十晶片表面澱積一金屬化層疇的互連金屬導體必須同有源區相接觸的位置，將玻璃絕緣層腐蝕成.e小孔.、接觸孔掩模即為決定這些小孔的製作...
在雷射的傳輸光路中採用液晶板作為掩模對雷射光斑內的能量分布進行空間調製，其顯示的圖形還可由計算機控制改變，從而實現雷射的柔性定域輻照。採用ITO（氧化銦錫）導電玻璃作為電極，保證了雷射能量與電化學體系的高效複合。項目預期將揭示...
冷加工玻璃的工藝可分為以下幾類：1.鑲嵌玻璃（傳統鑲嵌，英式鑲嵌，金屬焊接鑲嵌）2.化學蝕刻（圖案蒙砂，絲印圖案蒙砂，圖案凹蒙）3.工具雕刻（各式砂輪，砂條雕刻，晶剛刻刀，電腦車花）4.噴砂雕刻（手工刻膠紙掩模，機刻膠紙掩模...
《圓形石英玻璃光掩模基板規範(GB/T 16523-1996)》等效採用SEMI標準的SEMI P4—92。本標準第3章要求全部按SEMI P4—92制定，標準格式按GB/T 1.1—1993編制。本標準附錄A是提示的附錄。本標準由中華人民共和國電子工業部提出。本標準...
業內又稱光掩模版、掩膜版，英文名稱 MASK 或 PHOTOMASK），材質：石英玻璃、金屬鉻和感光膠，該產品是由石英玻璃作為襯底，在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠，成為一種感光材料，把已設計好的電路圖形通過電子雷射設備曝光在感光膠上,...
《基於等離子波的納米光刻光學裝置》是由反射鏡（1）和（6）、均勻器（2）、濾光片（3）、HG燈光源（4）、橢球反射鏡（5）和透鏡組（7）組成的均勻照明系統照明金屬掩模（8），使緊接觸放置矽片（10）上的抗蝕劑塗層（9）感光，...
7.5.5 嵌段共聚物用於納米光刻的掩模 7.6 高分子有機-無機複合材料 參考文獻 第8章 合金材料化學 8.1 金屬玻璃 8.1.1 基本理論 8.1.2 金屬玻璃的結構 8.1.3 金屬玻璃的機械性能 8.1.4 金屬玻璃的...