《透射電子顯微學（4卷本）》是2007年清華大學出版社出版的一本圖書，作者是威廉斯。
基本介紹
- 作者：威廉斯
- ISBN：9787302155294
- 頁數：729
- 定價：89.00元
- 出版社：清華大學
- 出版時間：2007-8
- 副標題：材料科學教材（4卷本）
內容介紹,作品目錄,
內容介紹
《透射電子顯微學:材料科學教材》(4卷本)(影印版)是美國最為流行的教科書之一。它分為4卷：基本概念，衍射理論，成像原理及能譜分析。其中第1卷主要講解電子顯微鏡的基本概念，包括衍射基礎知識、顯微鏡的組成部件、儀器構造與功能以及樣品製備。第2卷介紹衍射圖像、倒易點陣、衍射電子像的標定，以及各種衍射分析方法。第3卷主要是關於成像原理。該卷對材料研究中典型的課題進行系統的介紹。比如晶體缺陷、內應力、相分析等。該卷還著重介紹了高分辨電子顯微鏡和圖像模擬。第4卷討論各種能譜的分析方法與技術。比如X射線譜、X射線定量定性分析、電子能量損失譜、離子能量損失譜等。在電子顯微學研究中最為基本的理論是衍射理論，因而該書利用相當大的篇幅介紹衍射理論以及與其緊密相關的晶體結構，這些知識是材料學專業的重要基礎理論之一。
作品目錄
Ⅰ Basics1 The Transmission Electron Microscope2 Scattering and Diffraction3 Elastic Scattering4 Inelastic Scattering and Beam Damage5 Electron Sources6 Lenses,Apertures,and Resolution7 How to“See”Electrons8 Pumps and Holders9 The Instrument10 Specimen Preparation Ⅱ Diffraction11 Diffraction Patterns12 Thinking in Reciprocal Space13 Diffracted Beams14 Bloch Waves15 Dispersion Surfaces16 Diffraction from Crystals17 Diffraction from Small Volumes18 Indexing Diffraction Patterns19 Kikuchi Diffraction20 Obtaining CBED Patterns21 Using Convergent-Beam Techniques Ⅲ Imaging22 Imaging in the TEM23 Thickness and Bending Effects24 Planar Defects25 Strain Fields26 Weak-Beam Dark-Field Microscopy27 Phase-Contrast Images28 High-Resolution TEM29 Image Simulation30 Quantifying and Processing HRTEM Images31 Other Imaging Techniques Ⅳ Spectrometry32 X-ray Spectrometry33 The XEDS-TEM Iterface34 Qualitative X-ray Analysis35 Qualitative X-ray Microanalysis36 Spatial Resolution and Minimum Detectability37 Electron Energy-Loss Spectrometers38 The Energy-Loss Spectrum39 Microanalysis with lonization-Loss Electrons40 Everything Else in the Spectrum
