《表面科學與薄膜技術基礎》是2022年科學出版社出版的圖書。
基本介紹
- 中文名：表面科學與薄膜技術基礎
- 作者：張永平
- 出版社：科學出版社
- 出版時間：2022年10月1日
- ISBN：9787030731289
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
現代半導體技術和先進材料研發的進步，促進薄膜材料和製備技術快速發展，要求薄膜製備技術和薄膜結構有精細控制，需要了解表面與薄膜方面的基本物理知識。《表面科學與薄膜技術基礎》著重介紹表面與薄膜相關的基本概念、基本原理，幫助理解掌握薄膜技術的基本知識，為工作和科研打下良好基礎。《表面科學與薄膜技術基礎》內容包括真空物理基礎、表面科學基礎、薄膜物理基礎、薄膜生長技術、薄膜結構、表面和薄膜分析技術，以及幾種常見的薄膜材料。
圖書目錄
前言
第1章 真空物理基礎 1
1.1 真空基礎知識 1
1.2 氣體動力學理論 3
1.3 真空獲得 10
1.4 真空測量 19
1.5 真空系統 25
1.6 本章小結 26
習題 27
參考文獻 28
第2章 表面科學基礎 29
2.1 表面和體材料 29
2.2 表面重構 33
2.3 表面結構缺陷 37
2.4 表面張力和表面能 40
2.5 表面吸附 43
2.6 表面電子結構 49
2.7 本章小結 52
習題 52
參考文獻 52
第3章 薄膜物理基礎 53
3.1 薄膜生長模式 53
3.2 形核的熱力學模型 55
3.3 形核和生長的動力學過程 61
3.4 團簇的聚結與耗盡 62
3.5 形核與生長的實驗研究 65
3.6 本章小結 68
習題 69
參考文獻 69
第4章 熱蒸發沉積 70
4.1 蒸發的物理化學特性 70
4.2 薄膜厚度均勻性和純度 76
4.3 熱蒸發硬體 82
4.4 熱蒸發技術的套用 85
4.5 本章小結 87
習題 88
參考文獻 88
第5章 濺射鍍膜 89
5.1 電漿和湯森放電 90
5.2 電漿中的反應 94
5.3 濺射物理 98
5.4 濺射沉積薄膜過程 103
5.5 本章小結 108
習題 108
參考文獻 108
第6章 化學氣相沉積 109
6.1 反應類型 110
6.2 CVD熱力學 113
6.3 氣體輸運 114
6.4 熱CVD工藝 118
6.5 電漿CVD工藝 120
6.6 雷射CVD工藝 122
6.7 金屬有機CVD工藝 123
6.8 本章小結 124
習題 124
參考文獻 125
第7章 薄膜結構 126
7.1 薄膜結構演化 126
7.2 熱蒸發沉積薄膜結構和形貌 129
7.3 濺射鍍膜薄膜結構和形貌 133
7.4 CVD薄膜結構和形貌 136
7.5 本章小結 137
習題 138
參考文獻 138
第8章 現代表面分析技術 139
8.1 X射線光電子能譜 139
8.2 紫外光電子能譜 149
8.3 X射線衍射和低能電子衍射 152
8.4 掃描隧道顯微鏡和原子力顯微鏡 156
8.5 振動譜 159
8.6 本章小結 164
習題 164
參考文獻 165
第9章 薄膜材料 166
9.1 金剛石薄膜 166
9.2 超硬薄膜 173
9.3 半導體薄膜 178
9.4 磁性存儲薄膜 181
習題 184
參考文獻 184
