《薄膜物理與技術》是1994年成都電子科技大學出版社出版的圖書，作者是楊邦朝。
基本介紹
- 書名：薄膜物理與技術
- 作者：楊邦朝
- 出版社：成都電子科技大學出版社
- 出版時間：1994
- 裝幀：平裝
- 開本：16開
內容提要：,圖書目錄：,
百科名片
作/譯者：楊邦朝 出版日期：1994年01月
ISBN：9787810167499 [十位:7810167499]
頁數：237 重約：0.376KG
定價：￥16.00
內容提要：
薄膜物理與薄膜技術均是正在發展的學科與技術,有關薄膜的性質,薄膜形成機理的某些內容還處於探討中,薄膜技術也在不斷發展與完善之中;因此,《薄膜物理與技術》只能著重介紹薄膜物理與薄膜技術的基本內容,不可能對這兩大部分的廣闊而豐富的內容作全面而詳盡的論述。 《薄膜物理與技術》為電子材料與元器件專業本科專業基礎教材,也可供物理電子技術、半導體物理與器件、套用物理、敏感材料與感測器等專業的本科生和研究生,以及從事薄膜材料、薄膜物理、薄膜技術和電子材料與元器件、混合微電子技術等廠所的工程技術人員使用和參考。
圖書目錄：
第一章 真空技術基礎
1-1 真空的基本知識
1-2 稀薄氣體的基本性質
1-3 真空的獲得
1-4 真空的測量
第二章 真空蒸發鍍膜法
2-1 真空蒸發原理
2-2 蒸發源的蒸發特性及膜厚分布
2-3 蒸發源的類型
2-4 合金及化合物的蒸發
2-5 膜厚和澱積速率的測量與監控
第三章 濺射鍍膜
3-1 濺射鍍膜的特點
3-2 濺射的基本原理
3-3 濺射鍍膜類型
