《表面化學分析—X射線光電子能譜—薄膜分析結果的報告》是2019年5月1日實施的一項中國國家標準。
基本介紹
- 中文名:表面化學分析—X射線光電子能譜—薄膜分析結果的報告
- 外文名:Surface chemical analysis—X-ray photoelectron spectroscopy—Reporting of results of thin-film analysis
- 標準號:GB/T 36401-2018
- 中國標準分類號:G04
《表面化學分析—X射線光電子能譜—薄膜分析結果的報告》是2019年5月1日實施的一項中國國家標準。
《表面化學分析—X射線光電子能譜—薄膜分析結果的報告》是2019年5月1日實施的一項中國國家標準。編制進程 2018年6月7日,《表面化學分析—X射線光電子能譜—薄膜分析結果的報告》發布。2019年5月1日,《表面化學分析—X射線光電子能...
XPS主要套用是測定電子的結合能來實現對表面元素的定性分析,包括價態。 X射線光電子能譜因對化學分析最有用,因此被稱為化學分析用電子能譜(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA)。1887年,Heinrich Rudolf Hertz發現了光電...
XPS:固體樣品的表面組成分析,化學狀態分析,取樣訊息深度為~10nm以內. 功能包括:1. 表面定性與定量分析. 可得到小於10um 空間解析度的X射線光電子能譜的全譜資訊。2. 維持10um以下的空間解析度元素成分包括化學態的深度分析(角分辨...
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