螢光光譜儀

螢光光譜儀簡介

結構

由光源、激發光源、發射光源、試樣池、檢測器、顯示裝置等組成。

分類

螢光光譜儀可分為X射線螢光光譜儀和分子螢光光譜儀。

原理

主要用途

1.螢光激發光譜和螢光發射光譜

2.同步螢光（波長和能量）掃描光譜

3.3D（Ex Em Intensity)

4.Time Base和CWA(固定波長單點測量）

5.螢光壽命測量，包括壽命分辨及時間分辨

6.計算機採集光譜數據和處理數據（Datamax和Gram32)

類別指標

儀器類別： 03030429 /儀器儀表 /成份分析儀器 /X螢光譜儀

指標信息：

激發光源 Xe 450W

激發單色儀：4nm/mm,200nm～700nm

發射單色儀：雙色單儀，2nm/mm,300～1000nm

光譜測量範圍：240nm～850nm

靈敏度：水喇曼信噪比4000：1（397nm/5nm bandpass)

壽命回響範圍：10ps～10μs

新型型號

x射線螢光光譜儀

主要用途

儀器是較新型X射線螢光光譜儀，具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用於煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，並能給出半定量結果，結果準確度對某些樣品可以接近定量水平，分析時間短。薄膜分析軟體FP-MULT1能作鍍層分析，薄膜分析。測量樣品的最大尺寸要求為直徑51mm,高40mm.

儀器類別

0303040903 /儀器儀表 /成份分析儀器 /螢光光度計

指標信息

1.發射源是Rh靶X光管，最大電流125mA，電壓60kV，最大功率3kW 2.儀器在真空條件下工作，真空度<13pascals 3.5塊分析晶體，可以分析元素周期表F～U之間所有元素，含量範圍是ppm～100% 4.分析軟體是Philips公司（現為PANalytical）最新版軟體，既可作半定量，也可定量分析。精密度：在計算率N=1483870時， RSD=0.08% 穩定性計算率Nmax=6134524,Nmin=6115920,N平均=6125704,相對誤差為0.03%

附屬檔案信息：循環水致冷單元，計算機 P10氣體瓶空氣壓縮機

優點

靈敏度高，無破壞性和選擇性好

套用領域

螢光光譜儀被廣泛套用於化學、環境和生物化學領域。

是研究小分子與核酸相互作用的主要手段。通過藥物與核酸相互作用，使DNA與探針鍵合的程度減小，反映在探針螢光光譜的改變，從而可以了解藥物和核酸的作用機理。

螢光光譜儀

基本介紹