薩支唐(Chih-Tang Sah),1932年出生於中國北京,美國物理學家,微電子學家,美國佛羅里達大學教授,
美國國家工程院院士(1986),台灣“中研院”院士(1998)。2000年當選為中國科學院外籍院士。薩支唐教授長期致力於半導體器件和微電子學研究,對發展電晶體、積體電路以及可靠性研究作出了里程碑性質的貢獻。曾獲半導體工業協會(SIA)最高獎(1998)等多項獎勵。
基本介紹
- 中文名:薩支唐
- 外文名:Chih-Tang Sah
- 國籍:美國
- 出生地:北京
- 出生日期:1932年11月10日
- 職業:微電子學家
- 畢業院校:美國伊利諾大學
- 主要成就:中國科學院院士
人物生平,主要成就,科研成就,榮譽表彰,相關報導,個人生活,
人物生平
1932年薩支唐出生於中國北平市,後回福州接受完中學教育。
1949年赴美國就讀於伊利諾伊大學,1953年獲得學士學位後又到史丹福大學學習。
1956年在史丹福大學獲得博士學位。1956年起,他跟隨肖克利在工業界共同從事固態電子學方面的研究。
1959年至1964年供職於仙童公司。
1964年他來到伊利諾伊大學厄巴納-香檳分校任物理系和電子及計算機系教授達26年,培養出40名博士。
1988年起,他在佛羅里達大學擔任教授至今。
2000年當選為中國科學院外籍院士。
2010年廈門大學89年校慶之際接受聘任擔任廈門大學物理與機電工程學院教授。
薩支唐教授是改革開放以後最早與中國進行科技合作與交流的美國科學家之一。曾多次訪華,作了20餘次系列講座,先後指導了12名中國研究生,還多次協助在中國舉辦國際學術研討會。
主要成就
科研成就
研究領域
主要從事微電子學研究。長期致力於半導體器件和微電子學研究,在上世紀60年代末首先提出CMOS結構,對發展電晶體、積體電路以及可靠性研究做出了里程碑性質的貢獻。
薩支唐教授長期致力於半導體器件和微電子學研究,對發展電晶體、積體電路以及可靠性研究作出了里程碑性質的貢獻。他提出了半導體p-n結中電子-空穴複合理論。開發了半導體局域擴散的平面工藝和MOS、CMOS場效應電晶體,並提出MOS電晶體理論模型。發明了探測半導體中微量缺陷的深能級瞬態譜(DLTS)方法。發現了氫在矽中對受主雜質的鈍化作用。近期致力於亞微米MOS電晶體的可靠性研究。
在仙童公司期間,薩支唐帶領一個64人的研究組從事第一代矽基二極體、MOS電晶體和積體電路的製造工藝研究,是半導體工業先驅之一。他提出了半導體p-n結中電子-空穴對複合理論,和其他科學家共同開發出MOS、CMOS場效應電晶體,還提出了MOS電晶體模型。此外,他還發明了深能級瞬態譜方法用於探測半導體內的缺陷。目前他的研究方向主要是在亞微米MOS電晶體的可靠性研究。目前,薩支唐已發表了大約280篇學術論文,並應邀做了約170次學術演講。
榮譽表彰
半導體工業協會(SIA)最高獎(1998)等多項獎勵。
美國工程院院士
中央研究院院士
中國科學院外籍院士
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