《脈衝雷射沉積動力學原理》是2011年3月在科學出版社出版的書籍，作者張瑞明。《脈衝雷射沉積動力學原理》對現代材料先進制備技術——脈衝雷射沉積技術的機理，進行了深入、系統的討論，是國際上第一本全面闡述脈衝雷射沉積動力學的專著，內容取材於作者多年的科研結晶。
基本介紹
- 書名：脈衝雷射沉積動力學原理
- 作者：張端明
- ISBN：9787030305954
- 類別：電子與通信
- 頁數：395
- 出版社：科學出版社
- 出版時間：2011-03-01
- 裝幀：平裝
- 開本：16開
內容簡介
本書介紹作者提出的能自洽描述全沉積過程的統一動力學模型，並逐一研究各工藝階段的熱動力學的規律，詳盡地闡述有關的最新研究成果：基於局域守恆定律的電漿的新演化模型，羽輝演化的近場、中場和原場行為的研究，包含熱源項、蒸發項、吸收率動態變化和非傅立葉效應的綜合燒蝕模型，薄膜的蒙特卡羅研究和若干標度規律的發現、修正和綜合雙溫模型等。本書的飛秒雷射動力學研究，其套用範圍涉及微納加工、光電、生物、信息和化學工程等，因而本書具有很強的科學性、原創性和實踐性。
