粒度分析器工作原理全量程米氏散射理論雷射粒度分析採用全量程米氏散射理論，分粒度分析器依據分散系統分為濕法測試儀器。
基本介紹
- 中文名：粒度分析器
- 簡介：
簡介,工作原理,分類,
簡介
光在傳播中，波前受到與波長尺度相當的隙孔或顆粒的限制，以受限波前處各元波為源的發射在空間干涉而產生衍射和散射，衍射和散射的光能的空間（角度）分布與光波波長和隙孔或顆粒的尺度有關。用雷射做光源，光為波長一定的單色光後，衍射和散射的光能的空間（角度）分布就只與粒徑有關。對顆粒群的衍射，各顆粒級的多少決定著對應各特定角處獲得的光能量的大小，各特定角光能量在總光能量中的比例，應反映著各顆粒級的分布豐度。按照這一思路可建立表征粒度級豐度與各特定角處獲取的光能量的數學物理模型，進而研製儀器，測量光能，由特定角度測得的光能與總光能的比較推出顆粒群相應粒徑級的豐度比例量。
工作原理
1 .全量程米氏散射理論雷射粒度分析採用全量程米氏散射理論，充分考慮了分散介質和被測顆粒的折射率，結合專利的測量裝置，根據大小不同的顆粒在各角度上散射光強的變化來反演出顆粒群的粒度大小和粒度分布規律；
2 .粒度分析器採用獨創的無約束擬合反演方法、頻譜放大技術，數據處理後可以獲得更加真實的分布情況，對於高校、研究所等科學研究型客戶具有非常重要的實用價值；
3.粒度分析器採用公司自主研發的CR-128數字相關器。眾所周知，現在國內的雷射粒度儀企業，全部採用的是“靜態光散射理論”，此理論測試的有效下限只能達到50納米，對於更小的顆粒則無能為力。納米顆粒測試必須採用“動態光散射”技術，而實現此技術的重要部件--相關器一直由國外壟斷，粒度分析器率先打破了此項技術的國際壟斷，為國內填補了技術空白，可測試1-3500nm大小的顆粒。
分類
粒度分析器依據分散系統分為濕法測試儀器，乾法測試儀器，乾濕一體測試儀器，另有專用型儀器，例如噴霧雷射粒度儀、線上雷射粒度儀等；
